国产芯片突围倒计时，芯片国产化又近了，光刻机问题解决了？

　　芯片国产化
　　我相信，只要大家看到＂国产芯片突围倒计时＂这几个字，便已经热血澎湃。的确，自芯片断供以后，国内就加大了芯片制造业的有关研究，核心的中国企业和中科院等国内顶级科研机构，都进一步增加了芯片的研发力度，而制造芯片的核心设备光刻机，也同样被归为重点科研内容。
　　终于，在大家的共同努力下，我们的国产芯片目前已经在好些环节取得了惊人突破，这意味着距离芯片生产的国产化进程又更近了一步。具体来说：中国电科旗下的装备子集团具备了离子注入机解决方案，可实现全谱系离子注入机的国产化，共计新增的发明专利多达413种，工艺段的覆盖范围也达到了28nm，而主要产品则包括了特种应用、高能、大束流、中束流和第三代半导体等离子注入机这些部分。
　　当然，芯片国产化更近了，还包括了中芯国际正在冲击7纳米芯片，以及清华大学教授唐传祥研究小组的新研究成果，这能让更大功率的EUV光源得到应用。与此同时，中科院也在近日在5nm光刻机的制造工艺上取得突破，在这个过程中，研究人员采取了新的技术路线，这是一种新型的5nm高精度激光光刻技术。
　　中国从什么时候开始发展芯片的？
　　不知道有多少人了解过黄昆先生（下图左一位置），他是中国科学院院士，也是我国半导体技术的奠基人和国家最高科学技术奖的获得者。中国的第一个半导体物理专业，便是由黄昆先生在1956年的时候建立，从1957到1958年的第一批两百多名半导体专业毕业生，都是由他所培养，同时还建立了用来生产和研究半导体器件的车间。
　　说这些只是想要表达，并不是我国在过去没有发展芯片和光刻机，更不是我们不重视这些，只是当时的国际和国内环境，还有其他更重要的事情需要耗费大量人力物力去做，比如国家安全方面的相关建设。简单来说，芯片固然重要，但它在关乎民族存亡的国家安全问题面前就相对＂渺小＂了很多。
　　在过去几十年的芯片和光刻研究历程中，中科院在上个世纪60年代的时候研究出了65接触式光刻机，并于1978年开始研制半自动接近式光刻机。当时间到了1990年，中科院研制成功了直接分步重复投影光刻机样机，1996年0.8-1微米分步重复投影光刻机成功验收。这些过去的研究成果，虽然没有让我们成为芯片强国，但不能因此否定研究人员曾经付出的努力和取得的进步。
　　为什么最厉害的光刻机厂商在荷兰，却要＂受命于＂美国？
　　的确，目前芯片国产化最大的难题，实际上还是卡在了光刻机上，虽然全世界第一块现代化芯片是由美国科学家杰克·基尔比在1958年发明，但这个发明最初并没有让大家觉得竟然可以改变世界，以至于直到2000时，也就是杰克·基尔去世前的第五年才拿到诺贝尔物理学奖，这份特殊的荣耀迟到了42年之久。
　　当然，一开始的时候，美国的确是走在最前面的，因为那时荷兰的ASML都还没有诞生，光刻机的原理看似简单，就像幻灯机一般，所以当时并没有几个人把光刻机视为高科技产品。等时间来到80年代前后，日本通过美国扶持获得芯片装配产业的迅速发展，并在90年代的时候占据了全世界半导体产业第一的位置，这让他们的出口额在这个时期超过了美国。
　　在2002年的时候，林本坚拿着所谓的沉浸式光刻方案跑遍当时的几个芯片强国，其中包括日本、美国和德国，但最后都没有成功说服任何一个。就在这个时候，本来还不起眼的ASML抓住机会赌了一把，后来，仅仅是一年多的时间就铲除了首台样机，就这样连续夺得了台积电和IBM这些大客户。
　　不过，荷兰ASML真正崛起还是离不开美国后来的操作，英特尔在1997年的时候带头弄了个联盟，而美国能源部就是负责牵头的人，由于当时美国本土的光刻机企业被尼康打得不成样子，剩下的两个公司分别来自日本和荷兰，再加上没有足够的信心能够凭一己之力共可能技术难题。
　　于是，美国让ASML同意了在美国建一个研发中心和工厂，保证美国本土的基本需求，并同意零部件中的55%都必须从美国购买，在此期间还要定期接受美国的审查，这便时美国能不允许荷兰像中国出口光刻机的根本原因。所以，世界上有名的光刻机厂商来自荷兰，但ASML却不具备所有决定权，但所谓的芯片强国日本、韩国和美国，他们都没有荷兰ASML的光刻机技术先进。