芯片的缺乏,光刻胶占了一大部分,而且是技术堡垒很高的产品,导致国产化之路难以进行。资料显示,光刻胶又称光致抗蚀剂,是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射,其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。 光刻胶由于技术复杂,主要是将原材料(树脂溶液、光敏剂、溶剂等)按比例投入混合釜中,进行混合调配,检测通过进行分包入库。前期事先要对原材料进行纯化,达到标准才能进入生产过程。 一、光刻胶废水来源 光刻胶的废水主要来源于对原材料的纯化产生的废水、生产过程中产生的废液、清洗设备产生的废水等。基本上都是为了生产原材料配比能顺利达到合格标准,设备中残留的原材料或者反应不完全材料直接会导致生产过程中的原材料比例不对。因此需要对设备进行清洗,将残留部分进行清除。 二、光刻胶废水污染物 光刻胶的废水含有原材料以及部分废液,因此废水主要的污染物是有机物、树脂合成物、pH、石油类、生物难以降解物质等等。因此不能直接排入水体,需要经过废水处理工艺进行处理,达到标准后排入。 三、光刻胶废水处理工艺 1. 物理法,格栅是由一组平行的金属栅条制成的金属框架,斜置在废水流经的渠道上,或泵站集水池的进口处,用以截阻大块的呈悬浮或漂浮状态的固体污染物。可以将原有的胶状材料(树脂等)进行回收再利用,提高材料的利用率,降低成本。 2. 混凝沉淀法,是将混凝剂加入到废水中,使水中胶体物质、微细悬浮物在化学、物理作用下聚集成大颗粒絮体,从而加速沉淀,强化固液分离。脱除水中胶体物质和细颗粒物。 3. 分子吸附筛选,运用大孔径高分子材料,对废水中的有机物进行吸附筛选。 4. 生物法,采用厌氧+好氧生物处理法的方式,将水中生物易溶解的有机物,去除部分的COD,提高B/C。 以上是部分光刻胶的废水处理工艺。 "卡脖子"不仅是在设备上,也有在材料上,半导体之路还有很长的路需要走。走的过程中,也需要多废水多关注,不要造成环境不必要的破坏。