华为入场，落后二十年的光刻机技术终于有望得到突破

　　华为
　　随着华为遭到芯片限制的影响，我们再一次将目光聚集到半导体这一高端技术领域。华为在逆境之中依然没有放弃并且开始招募人才进入光刻机领域，芯片制造这一困扰了我们半个多世纪的难题终于有望迎来突破了。
　　光刻机光刻机并不是一家公司的产物
　　虽然提到光刻机必然需要提到ASML这家荷兰公司，但光刻机并不是ASML自己完全独立研发出来的。虽然ASML是唯一一家能够提供EUV光刻机的设备商，但这并不全是ASML自己的功劳。一台光刻机其内部零件数量多达10万个、4万个螺栓、3000根电线、2公里短软管等等，整台机器重量高达180吨。其中光源技术是美国的、光学设备是日本的、轴承是瑞典的、阀件是法国的、机械工艺和蔡司镜头是德国的。
　　因此实际上光刻机是集中了全球力量和智慧的产物，想要超越并不只是单单超越ASML一家公司，而是一整条完整的产业链。我们有光刻机，但不够好
　　目前我们最先进的光刻机是来自上海微电子的193nm ArF准分子激光的干式和浸没式DUV光刻机，已经验证了可行性但是量产时间一拖再拖，预计下线时间已经从2021年延长至2022年。虽然同样使用了ArF（深紫外光源），但其整体技术指标距离ASML的第四代DUV光刻机还有不小差距，整体实力只相当于ASML 第三代光刻机TWINSCAN AT:1150i的水平，我们落后的差距大约是二十年。02专项所带来的技术突破
　　02专项发布会
　　很长一段时间我们确实没有重视光刻机的发展，例如上海微电子十年期间研发费用只有6亿，平均到一年之中仅仅6000万，实际上经费十分有限。但国家也已经意识到了光刻机发展的重要性，并推出了《极大规模集成电路制造技术及成套工艺》项目（02专项），在参与的部门中，清华大学和北京华卓精科负责双工件台系统并且已经取得突破，让我们成为全球第二个掌握该项技术的国家（仅次于ASML的Twinscan技术）；浙江大学流体动力与机电系统国家重点实验室和浙江启尔机电负责沉浸式光刻机的浸液系统，这让我们成为全球第三个掌握该项技术的国家（仅次于ASML、Nikon）；其余还有中科院光电研究院负责的准分子激光光源（仅次于美国Cymer和日本Gigaphoton）、中科院长春光机所负责的物镜系统（德国卡尔蔡司是领导者）、中科院上海光机所负责的照明系统（德国卡尔蔡司是领导者）、负责先进制程的中芯国际……
　　可以看到我们正在把光刻机的10万个零件拆分成一个一个微小的部分，然后交由大量的机构来协作完成，从而打造出一条完整的产业链，以一己之力打造光刻机并非天方夜谭。但在所有子系统取得突破之后，我们还需要一个领头羊企业来像ASML一样将所有器件组合在一起，那么谁能完成这个任务？
　　华为时代选择了华为
　　是小米？是联想？是中兴？只能是华为！凭借高达1418亿的研发投入和国内最高的芯片自产化水平，这项任务有且只有华为能够完成，而在华为的统合之下，长达半个多世纪的半导体难题也有望迎来破解。机会曾经公平地摆在所有企业面前，但是只有华为有能力抓住这个机会走向卓越。
　　ASML在EUV光刻机上的累计研发投入不过60亿欧元（折合470亿人民币），这相对于我们每年高达2万亿的半导体市场来说实在是如沧海一粟般渺小。很长一段时间以来我们并不是不能向这个方向投入，只是我们有更多的事情需要去做。随着工业化的逐步完成，各种家电数码产品走入了千家万户，在人民生活水平和基础设施已经完善的前提，下一步必然会向高科技领域进军，而芯片和光刻机无疑是一个很好的方向。
　　在这一场新的科技浪潮里，必然还会有更多如华为一样的公司崛起，它们将携手并进为中华民族的科技复兴贡献力量，而我们则有幸将成为这场盛宴的见证者。