中国光刻机多项技术取得突破，为何仍遭科学家质疑？

　　放眼全球，能制造光刻机的企业不超过7家。而只有荷兰的ASML是唯一一家可以制造EUV光刻机的公司。
　　中国的上海微电子也可以制造光刻机，并且占据中国百分之八十的市场份额。前段时间，上海微电子终于宣布＂即将交付使用ARF光源的28nm光刻机＂，此前上海微电子设备的工艺一直停留在45nm，国产光刻机迎来了又一个里程碑式的进步。
　　实际上还有消息曝出上海微电子设备已经生产出了可用于14nm制程的光刻机，只不过由于良品率还未达标，并未对外宣布这个消息。
　　光刻机（Mask Aligner) 又名：掩模对准曝光机，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。它最核心的部件就是紫外光源，深紫外光的叫做DUV光刻机。最先进的是EUV光刻机，也就是极紫外光。
　　光刻机价格非常昂贵，一般在3000万到5亿美元不等。而只有荷兰的ASML有能力制造EUV光刻机，几乎垄断了全部市场，EUV光刻机在国内一台都没有。上海微电子出产的28nm光刻机它也只是属于DUV光刻机的范畴。
　　除了三星，全球所有的芯片大厂，几乎都被美国垄断。美国发动对华贸易战，首先就在芯片上卡住了中国的脖子。最为典型的就是华为，作为一家手机厂商，所有业务都无法脱离芯片。华为因此已经卖掉了旗下的子品牌荣耀手机，经济损失数百亿美元。
　　于中国而言，上海微电子的里程碑式进步，无疑给国人又增加了一剂强心剂，如果能顺利实现28nm光刻机，国内就可以打造完全自主化的芯片生产线。而且，中芯国际也已经宣布突破了7nm芯片的工艺，有望实现量产。这无疑是国产芯片打了一个漂亮的翻身仗。
　　有人欢呼，就有人质疑，在贵阳举办的2021年数博会上，中国工程院院士吴汉民在会议上说，一台最高端的EUV光刻机价格大概在一亿美元，里面有10多万个零部件，全球超过5000家供应商，是通过全球的技术集成做起来的。在那个光刻机里面，荷兰腔体和英国真空占32%，美国光源占27%，德国光学系统占14%，日本材料占27%，它是一个全球化的结晶。
　　中国要独力制造EUV光刻机的话，不太现实，也需要参与到全球化当中。
　　有人说吴院士这是打击我们做光刻机的信心，我看完全不会。做产品的人，不是听别人说说就退缩了，越是有差距，越有机会。
　　值得注意的是，砸百亿，太少了，决心不够大，该投入还是要投入，该支持的该保护的，都要支持和保护，靠别人做梦，永远无法自主和可控，永远被别人按在地上摩擦。