历史新高！中微公司去年营收增五成，过去10年营收增速超35

　　中微公司视觉中国资料图
　　尽管去年受到疫情等影响，但半导体设备处于高景气度，半导体设备供应商中微公司的营收和新签订单都在高速增长，盈利能力也在快速释放。
　　2月27日晚，中微半导体设备（上海）股份有限公司（中微公司，688012）发布业绩快报，受益于半导体设备市场发展及公司产品竞争优势，公司2022年实现营业收入47。4亿元，较上年同期增长52。5，再创历史新高，公司从2012年到2022年十年的平均年营业收入一直保持了高于35的增长率。
　　中微公司2022年归属于母公司所有者的净利润11。7亿元，较上年同期增加15。66；归属于母公司所有者的扣除非经常性损益的净利润为9。20亿元，较上年同期增加183。44。
　　中微公司的2022年业绩快报与之前业绩预告基本一致，净利润接近上限。之前业绩预告2022年营收为47。40亿元，同比增长52。5，预计实现归母净利润10。812亿元，同比增长6。7818。64；预计实现扣非后归母净利润8。69。4亿元，同比增长165。11189。77。
　　与此同时，中微公司去年新签订单金额约63。2亿元，较2021年增加约21。9亿元，同比增加约53，订单销售比达到1。33。
　　中微公司是等离子体刻蚀设备主要供应商之一。公告指出，等离子体刻蚀设备是除光刻机以外最关键的微观加工设备，是制程步骤最多、工艺过程开发难度最高的设备。由于光刻机的波长限制和二维芯片到三维芯片的发展，等离子体刻蚀设备越来越成为卡脖子的设备，也成为十大类关键设备市场最大的一类，占半导体前道设备总市场的约25。
　　中微公司布局的薄膜设备（主要是化学薄膜和外延设备）是除光刻机和刻蚀机外第三大设备市场。中微公司还通过投资布局了第四大设备市场光学检测设备。
　　中微公司披露，截至2022年底，公司累计已有3311台等离子体刻蚀和化学薄膜的反应台，在国内、亚洲和欧洲的106条生产线，全面实现了量产和大量重复性销售，赢得了众多客户和供应厂商的信任和支持。
　　中微公司的CCP电容性高能等离子体刻蚀设备持续得到众多客户的批量订单，市场占有率不断提升，累计已有2320台反应台在生产线合格运转。在国际最先进的5纳米芯片生产线及下一代更先进的生产线上，公司的CCP刻蚀设备均实现了多次批量销售，已有超过200台反应台在生产线合格运转。
　　中微的ICP电感性低能等离子体刻蚀机已在超过20个客户包括逻辑、DRAM和3DNAND等各类芯片生产线上进行超过100多个ICP刻蚀工艺的量产，并持续扩展到更多刻蚀应用的验证，发展势头强劲。同样应用ICP技术的8英寸和12英寸深硅刻蚀设备在先进系统封装、2。5维封装和微机电系统芯片生产线等刻蚀市场继续获得批量重复订单。
　　华创证券日前发布报告称，美国出口管制开启设备国产化浪潮，以中微公司代表的国内半导体设备厂商的份额显著提升。中微公司的CCP设备和ICP设备正快速突破，在逻辑产线中，公司已实现多数刻蚀工艺的覆盖；在3DNAND中，公司CCP刻蚀设备可应用于128层及更高层数NAND的量产，同时正在开发新一代能够涵盖200层以上极高深宽比的关键刻蚀应用以及其他关键刻蚀应用。
　　中微公司的另一个主打产品MOCVD设备是三五族化合物半导体制造的最关键的核心设备。这种高端外延设备从照明，向大面积显示屏、功率器件、微显示等新兴领域迅速扩展，市场领域扩展迅猛。全球有能力参与高端设备主流市场竞争的企业非常有限。
　　中微公司表示，公司MOCVD设备在新一代MiniLED产业化中，在蓝绿光LED生产线上取得了绝对领先的地位。公司正在开发的用于氮化镓和碳化硅功率器件的外延设备，以及制造MicroLED的MOCVD专用设备，将陆续推向市场。此外，公司的各种新产品开发，包括用于更先进微观器件制程的极高深宽比刻蚀设备、LPCVD薄膜设备、EPI外延设备和多种MOCVD设备，也取得了可喜的进展，即将为公司贡献销售收入。
　　华创证券也认为，随着MiniLED技术趋于成熟，下游LED芯片厂商积极扩产，中微的MOCVD设备业务将迎来业绩拐点。
　　27日收盘，中微公司报收104。34元股，跌幅2。44。