中国崛起的光刻机厂商占据国内大部分市场，全力追赶荷兰ASML

　　突如其来的公共卫生事件，导致各行各业的发展受到了一定的影响，一些小型企业面临破产，大量员工面临失业。但是相比公共卫生事件，美国实施的芯片禁令更是阻碍了中国的发展，尤其是半导体行业。美国进行这一操作的目的，就是为了阻碍华为5G通信行业的发展，从而稳固美国在国际市场上的霸主地位。
　　正是这样，芯片逐渐成为国产企业面临的最大难题。随着全球缺芯的问题日益明显，世界各国开始自主研发芯片。中国亦是如此，一些科技企业开始研发芯片技术，一些家电企业开始转型发展半导体产业，清华大学、西安电子科技大学等一些高校开始培养这一方面的人才，从而解决芯片面临的短缺问题。
　　对于芯片的制造，应该大部分人十分清楚，光刻机是不可或缺的核心设备。如果没有光刻机，想要实现芯片的自给自足基本不可能。美国之所以实施芯片禁令，主要是因为中国没有适合的芯片代工厂商可以完成芯片的制造，只能依靠台积电这一代工厂商进行代工。但实际上，除了华为公司，还有英特尔公司、美国高通等都是依靠台积电进行芯片的制造。
　　作为全球最大的芯片代工厂商，台积电已经占据了全球超过50的市场份额，未来的市场份额还会持续增加。台积电拥有今天这一成绩，主要是因为荷兰ASML公司的支持，它是全球唯一一个掌握了EUV光刻机制造工艺的厂商。虽然台积电已经掌握了5nm芯片工艺，但是一直无法摆脱美国的限制，制造的芯片十分依赖荷兰ASML公司的光刻机。
　　实际上，中芯国际曾在荷兰ASML公司定制了一台先进的EUV光刻机，但是因为美国的从中作梗，导致这台光刻机一直无法到达中国市场，这说明了仅仅依靠进口，根本无法解决中国半导体行业面临的难题。目前，台积电已在芯片代工市场站稳脚跟，占据了全球芯片市场超过一半的市场份额，说明它的实力不容小觑。
　　对于EUV光刻机的分析，荷兰ASML公司可谓是达到了国际领先的程度。然而，荷兰ASML公司研发的EUV光刻机一半都在台积电手上，这在一定程度上推动了台积电的发展。至于荷兰ASML公司在光刻机市场的影响，基本没有一家企业可以动摇。对于芯片的制造而言，光刻机有着至关重要的作用，没有光刻机根本无法实现芯片的制造。
　　然而，ASML公司近乎垄断了全球的光刻机市场，迄今为止只有这一光刻机厂商实现了EUV光刻机的研发，其它光刻机厂商只能研发一些基础的光刻机设备。虽然日本的佳能、尼康都在光刻机方面取得了显著进展，但是依旧无法超越ASML公司。正是这样，ASML公司一直稳居霸主地位，并且得到了台积电、英特尔、高通等大型企业的认可。
　　光刻机的制造原理十分复杂，制造一台光刻机需要的零件达到了5万个，它是人类智慧结晶的代表，还被人们称为现代光学工业之花。由于光刻机的制造堪比登天，因此无论是一个国家还是一家实力强大的企业，根本无法凭借一己之力进行制造。虽然ASML公司推出了全球最顶尖的EUV光刻机，但是这一光刻机不是荷兰以一国之力自主制造的。
　　要知道，ASML公司采用了德国蔡司公司的光学镜头设备、美国公司的光源技术等等，光刻机的一些零件需要通过进口而来。可以说，ASML公司制造的光刻机采用了全球各大科技强国的顶尖技术，这样才能实现EUV光刻机、DUV光刻机的制造。可见，制造一台光刻机不是轻而易举的事情。
　　目前，全球的光刻机制造厂商屈指可数，除了ASML公司，只有日本的尼康、佳能可以研发光刻机，但是它们制造的光刻机与ASML公司存在一定的差距。然而，ASML公司垄断了全球高端光刻机市场，只有台积电、英特尔、三星公司才能得到ASML公司的光刻机设备。只有三大巨头不需要使用的光刻机设备，ASML公司才会向其它企业出口。
　　那么，中国可以制造光刻机的厂商是谁？它与ASML公司之间有何差距？目前，中国有且只有一家企业可以制造光刻机，它就是上海微电子。上海微电子成立至今只有20年，而ASML公司成立至今已有38年，这说明了中国光刻机的研发时间晚了ASML公司将近20年。即使这样，上海微电子依旧没有选择放弃，而是坚持自主研发，全力追赶荷兰ASML。
　　经过十几年的不断研发，上海微电子积累了制造光刻机的先进技术，包括封装光刻机、高亮度LED光刻机技术等等。不过，光刻机这一行业不仅需要先进技术、资金的支持，还需要大量的优秀人才，这样才能实现光刻机的研发、设计、制造。目前，上海微电子的人才队伍已经超过了1000人，同时还在不断培养优秀的光刻机人才。
　　根据统计数据显示，上海微电子已经占据了中国光刻机市场超过80的份额，掌握的封装光刻机技术已经应用于一些国产智能手机，逐渐打破了中国对于光刻机进口的依赖。但是，国产光刻机目前依旧存在一大问题，迄今为止依旧无法实现精密零件的自主制造。
　　ASML公司采用了美国、德国、日本等发达国家的高端零件，中国迄今为止依然无法掌握这一核心技术，而且有钱也买不到。虽然上海微电子经过一系列创新，目前已经实现了90nm光刻机的制造，但是依旧与ASML公司存在巨大的差距。要知道，ASML公司已经开始制造7nm、5nm的EUV光刻机。
　　不过，上海微电子自主研发的28nm光刻机预计今年可以交付，这在一定程度上实现了光刻机的国产替代。虽然上海微电子与ASML公司之间依旧存在一定的差距，但是上海微电子正在全力追赶，从而打破ASML公司垄断光刻机市场的局面。要知道，研发光刻机这一顶尖设备不是一蹴而就的，需要一段漫长的时间，加上技术的不断积累，才能突破光刻机设备的核心技术。
　　正是这样，我们不用担心ASML公司垄断光刻机市场，因为未来的发展我们无从知晓。如果这一问题放在20年前，可能大部分人都会妄自菲薄，因为中国的半导体行业并不发达，科技水平依旧无法达到国际水平，美国的制裁确实让人十分担忧；但是现在，作为全球最大的半导体市场，中国的半导体行业已经崛起。
　　随着发展规模的不断扩大、资金的投资以及人才的积累，中国半导体行业的发展趋势越来越可观。只要我们给予科研人员、国产企业充足的时间，相信我们可以制造全球最顶尖的EUV光刻机，从而打破ASML公司的技术壁垒，实现光刻机设备的国产替代。
　　虽然ASML公司近乎垄断了光刻机市场，但是随着上海微电子的不断兴起，未来有望打破这一局面。目前，上海微电子正在全力追赶荷兰的ASML公司，并且占据了中国光刻机市场80的份额。不过，光刻机的制造不是一蹴而就的事情，我们应该给予科研人员、上海微电子等国产企业充分的时间。对此，你有什么看法吗？