自研EUV光刻机是否有戏，北大教授给出结果，ASML也有新态度

　　光刻机是被称为工业皇冠上的明珠，更是全球最高科学技术的代表，在全球范围内，仅有四家企业能够独立研发制造光刻机。
　　其中，两家在日本，分别是尼康和佳能；一家在国内，是上海微电子；另外一家是荷兰的ASML，但在这四家企业中，仅有ASML的光刻机占领了中高端市场。
　　数据显示，ASML的DUV光刻机和EUV光刻机占领了中高端市场，前者用于生产制造7nm以上的芯片，后者则用于生产7nm以下的芯片。
　　但因为美国修改规则，导致台积电等芯片企业不能自由出货，国内厂商要想研发生产制造先进制程的芯片，必须要用到EUV光刻机。
　　但由于EUV光刻机目前仅有ASML能够研发制造，国内厂商在3年前就全款订购了一台EUV光刻机，由于美国的缘故，至今ASML都无法交付安装。
　　在这样的情况下，华为宣布全面进入芯片半导体领域内，中科院等将光刻机作为优先攻克的技术难题，甚至国内大学还成立了集成电路学院，全面突破半导体技术等。
　　自研EUV光刻机是否有戏，北大教授给出结果
　　在ASML无法自由出货的情况下，国内厂商要想掌握7nm、5nm等先进制程芯片的生产技术，就必须要自主研发EUV光刻机。
　　据了解，上海微电子的全新一代国产光刻机即将下线量产，其采用的是193nm的波长光源技术，与ASML的DUV光刻机一样，都能够生产制造7nm以上制程的芯片。
　　但在国产EUV光刻机方面，至今还没有消息。
　　于是，很多人都想知道，国内自研EUV光刻机是否有戏，毕竟EUV光刻机关乎着国产先进制程的芯片，如果没有，国产先进制程的芯片就无法实现了。
　　对于＂国内自研EUV光刻机是否有戏＂这一问题，北大教授林毅夫近日给出了结果。
　　据悉，根据北大教授林毅夫的表态可知，自研EUV光刻机是有 戏的。因为光刻机最主要的技术就是光源技术，而清华大学已经在光源技术方面有所突破。
　　根据清华大学发布的消息可知，其介绍的一种新型粒子加速光源＂稳态微聚束＂的首个原理实验，而该光源技术是可以用于光刻机设备上的。
　　虽然EUV光刻机不仅需要先进的光源技术，还需要真空、镜片等高端技术，而这些技术也分别掌握在英国、德国手中，但这并不意味着国内厂商自主研发不了。
　　更何况，先进的设备都是集合了全球的先进技术，虽然ASML无法自由出货EUV光刻机，但这不代表德国、英国等企业不会不出售相关技术。
　　再加上，即便是德国、英国等不出售这些技术，像真空技术、镜片技术等还有同类竞争企业，国内厂商也可以购买这些企业的相关技术。
　　就像国产C919大飞机一样，核心技术掌握在自己手中，与全球供应链联合起来造飞机。
　　最主要的是，在光刻机方面，原本是日本最先进，后来才被ASML所超越，而国内厂商早已经与日本相关企业合作研发先进光刻机，目的是赶超ASML。
　　也正是因为如此，北大教授才说自研EUV光刻机是有 戏的，但需要一段时间，还需要国外供应链的协同。
　　其实，在北大教授林毅夫表态之前，ASML对国产先进光刻机也有了新态度。
　　日前，ASML总裁正式对外表示，如果ASML不能向国内厂商出售先进的光刻机设备，中国厂商将会在未来3年内自主研发出来先进的光刻机设备。
　　另外，根据中国厂商的一贯作风可知，中国厂商研发出来的先进光刻机必然是物美价廉，届时，ASML的光刻机在国内市场可能就没有销量了。
　　毕竟上海微电子已经占领了国内八成以上的光刻机市场。
　　对于ASML总裁的新表态，可能有些夸大，但国内自主研发EUV光刻机是势在必行，未来自然也会成功，也可能是两三年，也可能会晚一些。
　　对于国产自研EUV光刻机，你们怎么看，欢迎留言、点赞、分享。