光刻机要一直被卡脖子？华为我偏不

　　国产光刻机技术有了新进展了！老狐最近得知，华为公布了自研光刻机的部分技术专利。
　　根据专利显示，华为申请的这项专利并不是制造 EUV 光刻机的专利，而是 EUV 光刻机其中一部分的专利。
　　该专利主要解决光刻机中的＂匀光问题＂，匀光问题＂是在匀光系统上所出现的问题。
　　简单来说解决这个匀光问题，对成品质量有着决定性作用，光越均匀，成品也就越好，大大提高了良品率。
　　对华为的好处是，能更好地控制住成本，这样一来，商用的概率也就越大了。
　　事实上，除了国产光刻机技术在不断发展，国外光刻机的卡脖子状况，也出现了松动的迹象。
　　2018 年开始，ASML 被美国施压，禁止向中国出口最先进的极紫外线光刻机（EUV），但仍可以销售上一代的深紫外线光刻机（DUV）。
　　到了今年，美国变本加厉，要求连 DUV 也要禁售，这下 AMSL 不干了。
　　11 月 25 日，荷兰外贸与发展合作大臣莉谢·施赖纳马赫尔表示，荷兰正与美国政府就关于向中国出口光刻机的新限制进行谈判。
　　很明显，美国限制光刻机对中国出口，大大伤害了 ASML 的经济利益，他们不想再听美国人的话。
　　今年第一季度 ASML 就向中国出货了 23 台 DUV 光刻机，中国市场就此超过美国，成为 ASML 第三大市场。
　　在被限制的条件下，依然能排到第三，可见国内市场的潜力，ASML 肯定不愿意放弃。
　　另一方面，中国科技的特点，是越被封杀，就越要发展，赶上封杀者，最后迫使封杀者不得不低头。
　　比如，中国在突破盾构机技术后，德国盾构机就降价了，但中国依然按自己的步伐制造生产盾构机。
　　如今，这一幕很可能会再现，如果 ASML 继续封杀，等国产光刻机起来，ASML 日子就不好过了。
　　于是，在封杀多年后，ASML 光刻机，重新出现在中国大陆。
　　由上海建工四建集团承建的临港重装备 F16-01 地块，近日举行了鼎泰匠芯洁净室交付仪式，首台 ASML 光刻机搬入。
　　该项目于 2021 年 7 月开工，建成后将成为中国首座 12 英寸车规级功率半导体自动化晶圆厂。
　　据悉，建设包括 FAB 生产厂房、OS 生产调度及研发大楼、CB 综合楼、WH 仓库、CUB 动力站等大型群体工程。
　　项目完成后，可实现年产能约 36 万片 12 英寸功率器件晶圆片，主要生产 MOSFET、GaN FET、SiC FET 等功率器件产品。
　　不过，虽然国产光刻机开始不断进步，但技术差距和国外依旧有较大差距，这是客观现实。
　　现阶段，我国无法制造高端光刻机，但可以制造一些低、中端的光刻机。
　　2020 年 6 月，上海微电子设备有限公司透露将在 2021—2022 年交付首台国产 28 纳米工艺浸没式光刻机。
　　国产 28 纳米光刻机，与已面世的5纳米顶尖制程，依然存在较大的差距，
　　但部分常见的射频芯片、各种电器的驱动芯片等非核心逻辑芯片，仍可以采用 28~90 纳米工艺。
　　我国自主光刻机虽与外国先进水平仍有不小差距，但未来依然可期。
　　因此老狐认为，我们既不要妄自尊大，也不要妄自菲薄，只有脚踏实地，一步一步发展，才是正道。
　　参考资料：
　　新鼎资本：中国光刻机重大突破！美国急眼了？
　　嵌入式微处理器：首台 ASML 光刻机搬入！中国再添一座 12 英寸车规级晶圆厂
　　小武：华为光刻机新专利公布！国产芯片迎来曙光，麒麟明年真要回归了？？
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