光刻胶逆势上涨，南大光电领涨

　　6月1日，光刻胶指数逆势上涨。截至发稿，涨幅为5.66%，南大光电以12.60%幅度领涨，雅克科技涨停，容大感光、上海新阳和江化微等分别上涨6.92%、6.30%和5.22%。
　　南大光电于5月31日晚间公告称，其自主研发的 ArF 光刻胶产品继2020年12月在一家存储芯片制造企业的50nm闪存平台上通过认证后，近日又在逻辑芯片制造企业 55nm 技术节点的产品上取得了认证突破。
　　光刻胶是指通过紫外光、准分子激光、电子束、离子束、x射线等光源的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀刻材料。光刻胶是半导体制造的核心材料，质量和性能是影响集成电路性能、成品率及可靠性的关键因素。
　　光刻胶以及光刻胶配套材料是半导体制造材料所需各类功能性化学品中占比最大，技术壁垒最高的产品。半导体用光刻胶按不同制程可分为EUV（极紫外光）光刻胶、ArF光刻胶、KrF光刻胶及G线、i线光刻胶等。
　　南大光电表示，ArF光刻胶材料可以用于90nm-14nm甚至7nm技术节点的集成电路制造工艺，广泛应用于高端芯片制造(如逻辑芯片、 存储芯片、AI芯片、5G芯片和云计算芯片等)。
　　晶瑞股份在互动平台上称，其i线光刻胶已向国内的知名大尺寸半导体厂商供货，KrF（248nm深紫外）光刻胶完成中试，产品分辨率达到了0.25 0.13µm的技术要求，建成了中试示范线。
　　根据市场调研机构TECHCET数据，2021年整个半导体用光刻胶的市场只有19亿美元的规模，同时市场份额高度集中。在ArF光刻胶，日本的JSR、信越化学、东京应化、住友化学四家企业占据了82%的市场份额；在KrF光刻胶市场，东京应化、信越化学、JSR和杜邦占据了85%的市场份额。
　　不过，在产能紧缺和对供应链安全越来越重视的当下，国产光刻胶迎来新的发展机遇。天风证券在最新研报中表示，下游LCD产业向大陆转移加上集成电路成熟制程扩产显著，为国产光刻胶企业提供发展土壤与市场空间。其次，中美贸易摩擦、2020年疫情以及近期KrF光刻胶供应受限，使供应链安全与全产业链自主可控成为重中之重，特别是在28nm及以上成熟制程应用领域。
　　天风证券表示，光刻胶具备高重要程度以及成本不敏感属性，供应链存在天然高稳定性的特点，在加速进口替代的趋势下，看好核心材料一体化+具备先发优势的龙头公司。