上海微电子新一代光刻机将要下线量产！国内院士发布呼吁

　　想要制造芯片，当然离不开必要设备光刻机啦。只不过，全球能够生产光刻机的企业屈指可数，只有四家而已。而且， ASML 几乎垄断了中高端的光刻机市场，没有哪家企业可以与之相抗衡，它所生产的 EUV 光刻机和 DUV 光刻机也已经掌控了整个市场。
　　DUV 光刻机和 EUV 光刻机都是生产芯片必须要用到的制造设备，尤其是 EUV 光刻机，因为生产技术难度较大，所以造成了一机难求的现象。而且，它对中国攻克 7nm 以下的芯片技术起到了关键性的作用，换句话说，如果没有它，那么中国在芯片领域的探索将会止步不前。
　　现在全球的这四家光刻机企业中，只有上海微电子属于中国的光刻机研发制造企业，所以中国在购置光刻机方面，更倾向于选择上海微电子这家属于中国的企业。根据相关数据可以看出来，现如今，上海微电子生产的光刻机，已经占到了国内市场总额的百分之八十，令人倍感欣喜。
　　而且，到目前为止，上海微电子的光刻机制造技术已经有了最新的突破，它生产的 600 系列已经不再局限于生产 90nm 制程芯片的技术了，而是升级到了生产 28nm 制程芯片的技术。也就是说，未来中国在芯片制造领域的阻碍会被再一次削弱，未来中国实现芯片自给自足指日可待。
　　除此之外，上海微电子还发布了关于光刻机的最新消息，那就是拳新一代的光刻机即将下线量产，为中国的芯片制造领域持续发光发热。要知道，中国能够拥有达到 28nm 制程芯片技术的光刻机，实属不易，就连垄断全球市场的 ASML ，曝光精度也只是与上海微电子的 28nm 相同，可见，中国在芯片领域的发展是多么的突飞猛进。
　　而且呢，上海微电子最新发布的光刻机，除了可以制造 28nm 制程的芯片之外，制造 10nm 制程的芯片和 7nm 制程的芯片也毫不成问题。更重要的是，未来 1-2 年的时间里，国产 28nm 芯片生产线将会有建厂的打算，而且在整个生产线中都不含美国的技术，这对于曾经过度依赖外国芯片的中国来说，是一件莫大的好事儿。
　　就连国内的院士吴汉明都罕见的发声呼吁，表示 EUV 光刻机是集众多国家的核心技术于一体的，而且每年量产的数量也非常少。当然，院士的这种说法，并不是向正在飞速发展的中国光刻机制造企业泼冷水，而是在强调芯片生产中很重要的一个关键点——整体供应链的必要性和重要性。
　　的确，像 ASML 这种在全球知名的企业，也是要依靠全球供应链的技术来完成光刻机的量产。如果国内企业也想要提升 EUV 光刻机的量产数量，那么也应该借鉴 ASML 的成功经验，通过整合全球供应链技术来进一步突破光刻机技术。
　　虽然说，美国想要通过修改相应规则来限制国内技术的发展，但想要进一步突破光刻机技术，整合供应链技术和吸引人才都必不可少！