全文简介 析氧反应(OER)是电化学产氢的关键,为了满足工业要求,需要新的方法来简单、快速、环保和廉价地合成坚固、自支撑和高表面积的电极。在此,报道了一种新的液相等离子体(等离子体电解)在泡沫镍上生长分层纳米结构的方法。在形貌保留的情况下,铁可以掺杂到这种高表面积电极中。对于OER,铁掺杂泡沫镍电极在1。4730。013VRHE(60C)下达到工业相关电流密度500mAcm2,并且在140h内活性没有下降。 结果与讨论 图1等离子体电解过程。a)液内等离子体处理的实验装置,带有充满0。01mKOH的高压电源的双电极装置。b)在包含三个区域的设置中NF的高电位电特性:i)常规OER;ii)过渡;iii)等离子体区。顶部的图像显示了三个不同电位区域的NF,并在该区域(iii)显示了等离子体的特征发光。 使用如图1a所示的设置,我们研究了NF在0。01mKOH(pH11。96)中的阳极高电位(0630V)电特性,从电流电位图(图1b)可以划分为三个区域:i)常规区域;ii)过渡;iii)等离子体区。在常规OER区域之后,由于电极上形成的高密度气泡的高电阻,电流下降。最终,在电位为575V时,在阳极的O2气泡区域观察到均匀的等离子体放电(见图1b) 图2扫描电镜观察显示等离子体电解引起的形貌变化。未经处理的市售泡沫镍(NF)的SEM俯视图(a)和横截面视图(b,c)。没有分层纳米结构或表面修饰(见图S3S6,支持信息,更多的SEM图像和元素映射)。dh)等离子体处理后NF的SEM图像(俯视图),显示了分层纳米结构的存在(更多图像见图S7,支持信息)。i)等离子体处理过的NF截面的扫描电镜图像,显示薄而多孔的表层(更多图像见图S8,支持信息)。jl)等离子体处理NF的SEMEDX元素映射(俯视图)(见图S9,支持信息,EDX光谱),显示镍和氧的均匀分布。mo)等离子体处理的NF截面的SEMEDX元素映射(见图S10,支持信息,EDX光谱)揭示了氧化物表层。将样品嵌入环氧树脂中,并将其接地以获得截面。 经过等离子体(NFplasma)处理后,可以看到由0。11m大球形物体相互堆叠,部分团聚,形成覆盖整个NF表面的厚而均匀的层(图2di)。更大的放大显示,这些球体由更小的纳米花瓣组成,只有几纳米厚,并使球体具有花朵般的外观。截面图像显示了约200500nm厚的多孔表面层(图2i,m)。 图3NF、NFPlasma和NFPlasmaFe的核心级XPS分析。所有薄膜的Ni2p光谱(a)显示两个主要的2p32和2p12峰以及NiII(OH)2典型的伴星。只有NFPlasmaFe才能找到Fe的存在,并且在Fe2p光谱(b)中观察到的双峰对应于FeIII物种。NFPlasma和NFPlasmaFe的O1s光谱(c)显示出相似的峰,负责金属氧化物,氢氧化物和吸附水,而NF光谱主要显示表面氢氧化物物种。表面NFPlasmaFe的Ni和Fe含量的XPS定量在(d)中给出。e)在三种不同的溅射时间下NF等离子体的Ni2pXPS深度剖析,其中氢氧化物和氧化物峰的量随着Ni0物种的增加而不断减少。 粉末x射线衍射图(XRD)只包含金属镍的反射。因此,新形成的Ni(Fe)OxHy相均为非晶态。对于所有三个样品,Ni2p区域的X射线光电子能谱(XPS)与NiII表面物种的存在一致(图3a)。仅对于NFPlasmaFe样品,存在具有FeIII典型结合能。由XPS测量确定的元素表面成分显示,与镍相比,26的铁通过CV被引入(图3c)。原则上,在等离子体处理过程中,由于电势为630V,预期镍相具有较高的氧化态,但XPS仅观察到NiII。在等离子体处理后,表面的镍很可能与空气反应形成NiII。在NiII表面以下,XPS深度分析检测到镍处于更高的氧化态(主要是NiOOH),最终主要物种是Ni,来自表面氧化层下的金属NF(图3e)。 性能测试 图4a)电催化研究样品概述。b)扫描速率为5mVs1的循环伏安图。c)在100mAcm2下与其他各种Ni、Fe、NiFe和贵金属基催化剂的过电位比较。如前所述,浸泡是指在20mmol1Fe(NO3)3水溶液中简单浸泡4小时即可实现铁掺杂。d)25产氢速率下CP稳定性试验。e)60C下CV和CP稳定性测试。f)稳态CA测量的Tafel斜率。g)根据图S11和S12a还原峰的氧化还原活性位点数量。 NFPlasmaFe在2074、2485和30411mV过电位时分别产生电流密度10、100和500mAcm2(图4b)。工业系统中。当温度升高到60时,达到500mAcm2所需的电势降低了60mV,达到1。4730。013VRHE(图4e)。在60C和400mAcm2条件下的稳定性测试也显示活性没有下降(图4e,插图)。 结论 综上所述,本文采用新颖的辉光放电热液中等离子体电解方法,将扁平泡沫镍表面改性为具有花状外观的分层纳米结构表面,并增加表面积和活性位点数量。这种等离子体电解方法不涉及昂贵或有毒的化学物质(仅水和KOH),消耗很少的能量,仅需10分钟,并且只需要简单的双电极设置,具有高功率电源且无需外部加热。我们可以将铁掺杂到等离子体改性的NF(NFPlasmaFe)中,并通过CV循环保留其表面形貌和表面积。所获得的电极是自支撑的,不含粘合剂,并且在强阳极催化条件和高气体浓度形成条件下稳定。NFPlasmaFe作为OER的电极时,在1。4730。013VRHE(60C)下可以实现500mAcm2的工业相关电流密度,并且在200mAcm2下140h内没有观察到活性降低。 参考文献 Hausmann,J。N。,Menezes,P。V。,Vijaykumar,G。,Laun,K。,Diemant,T。,Zebger,I。,Jacob,T。,Driess,M。,Menezes,P。W。,InLiquidPlasmaModifiedNickelFoam:NiOOHNiFeOOHActiveSiteMultiplicationforElectrocatalyticAlcohol,Aldehyde,andWaterOxidation。Adv。EnergyMater。2022,12,2202098。https:doi。org10。1002aenm。202202098