新工艺出现，台积电N3被抛弃，中国芯片成为ASML的最后希望

　　依靠垄断光刻机市场，ASML这几年实在是太过风光，然而如今市场出现的新动向，可能正导致ASML的光刻机面临难以销售的问题，而中国芯片将成为ASML销售光刻机的最后希望。
　　ASML的最大客户是台积电，这几年台积电一直都积极采购EUV光刻机，然而近期台积电却遭受重击，它推出的N3工艺量产时间过晚以及工艺性能未达预期，导致苹果放弃了N3工艺，而此前曾计划采用的Intel早已放弃了台积电的N3工艺，如此台积电的N3工艺将只能被抛弃。
　　在N3工艺受挫之后，台积电如今正紧急改良N3工艺为N3E工艺，希望在明年能赶上平台的A17处理器量产时间，如此一来ASML曾期待台积电继续大举采用第一代EUV光刻机的希望已成空，毕竟台积电在无法确定N3E能否赶上A17处理器的量产之前是不会再大规模采购EUV光刻机的。
　　对ASML的另一大打击则是日本研发的NIL工艺，据称日本的NIL工艺已突破10nm，这就意味着在7nm工艺之前已有另一个选项，这对ASML的DUV光刻机无疑是重大打击。
　　NIL工艺是日本所独有的，在全球芯片行业，至今仅有日本研发了无需光刻机的NIL工艺，但是日本成功研发出10nm的无需光刻机的生产工艺，已为全球芯片行业提供了方向，将促使更多芯片企业研发无需光刻机的工艺，毕竟光刻机的价格实在太高了。
　　ASML此前对光刻机市场抱有乐观的态度，因此它一直都在大举扩张DUV光刻机和第一代EUV光刻机的产能，它曾推测全球芯片产能供应紧张的局面将延续三年时间，然而今年上半年芯片供给过剩的局面已出现。
　　如今ASML的最大客户台积电在先进工艺研发方面遇到难题，面临无客户采用的状况；其实不仅是台积电，三星的3nm工艺同样面临无客户采用，因为3nm工艺的成本实在太高了，原来也就财大气粗的Intel和苹果计划采用，然而如今都已成空，这就导致第一代EUV光刻机产能过剩已成定局。
　　至于DUV光刻机，本来还有中国这个超级大客户，ASML的光刻机有三分之一卖给了中国，然而却由于美国的横加干涉，导致ASML连14nm以下的DUV光刻机都不能卖给中国芯片企业，这就导致ASML的DUV光刻机减少了一大笔订单。
　　再加上如今日本开始加快推进NIL工艺，如此日本的芯片制造企业也将不会采用光刻机了。日本的NIL工艺给芯片行业的启发是可以通过舍弃光刻机生产的方式大幅降低成本，这对于承受供给过剩的芯片制造企业来说非常重要，毕竟到了这个阶段控制成本已成为最优先的选项，或许日本会将NIL工艺出售给日本以外的芯片制造企业，从而抢夺ASML的市场，造成ASML的DUV光刻机供给过剩的局面更加严重。
　　如此情况之下，中国芯片行业将成为ASML的最后选项，因为中国的芯片产能扩张颇为迫切，只要ASML能卖，那么中国芯片行业就会买，或许等到ASML的光刻机堆积如山面临生存问题的时候，ASML就不再顾虑美国的影响而开始向中国出售14nm以下的光刻机，乃至EUV光刻机了，毕竟ASML第二代EUV光刻机也快推出了，第一代EUV光刻机也就不属于先进设备。