台积电研究1。4nm工艺，震惊全球半导体厂商

　　台积电这家全球最顶级的专业半导体电路制造服务商，一直以来都以最先进的制程工艺领先全球所有半导体企业，目前4nm制程工艺已经成功实现量产，无论是3nm、2nm都已经进入研发阶段，台积电无疑是跑在了世界前列，特别是今年下半年即将就要小规模量产3nm工艺，更是让台积电的技术实力惊呆了全球半导体厂商，然而此消息爆出没多久之后，台积电又放出一个巨响，那就是要开始着手研究1.4nm工艺，不得不说，此消息一出，立马震惊了全球不少人士，这也就意味着未来芯片的性能将会越来越高，同时也意味着台积电的研究已经越来越接近物理极限。
　　我们都知道，由于摩尔定律的限制，我们制造的芯片晶体管数量是有限的，而这个限制虽说没有精确的数值表示，但是大概也应该就在1nm以上，这也就是说1nm本身以及包括1nm以下，以现在全球最顶级的光刻机以及芯片相关的技术，是完全没有办法实现的，这也就是说如果将来没有全新的技术出现，那么我们在芯片科技上的发展将会处于停滞状态，以往每年芯片性能增加20%的可能性将会不复存在，那么我们所涉及到的科技产品也将会失去创新和升级的能力，科技的发展也将会变得越来越慢。
　　确实如此，正是因为半导体的出现，才让全球科技得到了快速发展，一旦芯片晶体管数量无法再增加，那么这意味着什么，相信已经不言而喻了，而台积电现在已经开始着手研究1.4nm工艺，这也无疑是在挑战物理极限，一旦台积电成功实现1.4nm工艺的量产，那么也就意味着台积电在这方面的发展到头了，任何半导体企业想要在这方面超过台积电，是几乎不可能的事情了，那么想要超过台积电的技术，就必须要绕开光刻机，或者打造出能容纳更多晶体管的材料，只有这样才能重启科技，让人类科技发展的速度越来越快并且源源不断。
　　那么目前究竟有什么科技可以突破这一限制呢？台积电最终是否会被其它企业反超呢？
　　据目前可靠的资料显示，有两种可能是可以突破这一限制，而更加重要的是，这两种可能的相关资源与技术都掌握在中国手里，这才是无比振奋人心的好消息，首先就是光量子芯片，是一种比电子，光子的速度更快、耗能更低的方式，它所发挥出性能要比传统芯片还要更强，而更加重要的是，它根本不需要光刻机就能研发成功，这也就是说我们将不会再被ASML的高端光刻机卡住脖子，一旦光量子芯片成功量产并且在性能上要完胜1.4nm工艺的芯片，那么ASML的EUV光刻机势必会失去一定的市场地位，届时我们不但能打破国外技术垄断，更是在未来全球芯片市场都能占据更大的优势。
　　而另外一种可能则是全新的半导体原材料，去年台积电联合麻省理工学院，通过这种材料成功实现1nm工艺，这也就说想要打破物理限制，那么这种全新的半导体材料就成为了关键，而这种材料就是铋，我国就掌握着全球75%的铋资源，这也就是说将来想要打造更加高端的芯片，没有我们提供的原材料是几乎不可能的，同时这也意味着如今国外技术垄断的局面将会被打破，迎来的刚好洽洽相反，那就是我们可以做到垄断这种资源并以此来限制国外，这才是真正的无比振奋人心，目前半导体新材料铋的研究成果备受关注，连知名国际期刊Nature已经成功发表该成果。
　　确实如此，无论是光量子芯片又或是铋资源，我国都拥有着巨大的优势，现在台积电着手研究1.4nm工艺，这个时间节点也许是意味着当今科技已经走向尾声，而全新的技术势必将会迎来技术爆炸，那么人类科技发展的速度也将会变得越来越快，同样台积电在先进制程工艺上依然保持着领先，这也就是说全球想要超越台积电技术的半导体企业，还有着很长的一段路要走，而这段路究竟要走多长走多久，暂时没有人知道，但有一点可以肯定的是，传统科技已经快要走向终结，中国在全新科技领域的实力已经无人能比，未来科技的战场即有可能是中国一家独大。对此，您怎么看？欢迎在评论区留言讨论。