好消息!国产14纳米芯片明年底可实现量产!光刻机仍需攻克?
好消息电子研究所所长表示,国产14纳米芯片明年底可实现量产。
如果说28纳米国产芯片能够解决温饱,那么14纳米才是国产芯片的中间力量。
数据显示,整个半导体行业65%的芯片均采用14纳米的制程工艺,是绝大多数中高端芯片的主要制成。
目前我国,在14纳米芯片的发展中已攻克许多技术难题,如刻蚀机、薄膜沉积等关键装备,实现了从无到有后到封装集成技术成果全面实现量产等。但光刻机技术难题依然存在。
目前我国芯片自给力不足20%,预计到2025年自给率达到75%的目标还有较大空间。
当然想要实现国产芯片2025年达到75%自给率,最重要的就是攻克EUV光刻机,在有些人眼里中国可能永远无法攻克EUV光刻机技术难题,那么我想说的是:
别忘了,无论他有多先进都是人造的,不是神造的。中国人或许没有能力造出太阳地球或月亮,但是最先进的光刻机我相信中国一定能够造出来。万米深海我们去了、月亮我们去了、火星我们去了、空间站我们也建好了,那还有什么是中国人做不到的呢?
既然我国基本上在很长一段时间内都无法从ASML获得EUV光刻机,那么只有自研一条路了,当一个个核心技术被攻克时,也就意味着我们离最终的胜利又近了一步。
底什么时候能够造出EUV光刻机?个人觉得快的话5年左右,慢的话7-8年绝对也能够搞定。
当然这个时间很多人觉得是痴心妄想,不管怎样,咱们要给国产半导体不断加油打气,同时也让我们拭目以待等待几年我们再来看一下。