EUV光刻机要变味，ASML没想到，不想看到的坏消息还是来了

　　说到EUV光刻机，想必大家已经对它并不陌生了，当芯片的制造工艺达到7纳米时，EUV光刻机就开始具备市场需求，而到了7纳米以下工艺，则是一种刚需，实际上，英特尔的10纳米工艺，就已经开始采用EUV光刻机，当然，这与英特尔的工艺比较特殊有关，主要还是因为集成度更高。
　　所以英特尔的10纳米工艺，在集成度上等效台积电的7纳米工艺，也正是因此，英特尔才把自己的芯片工艺的命名进行了修改，例如其10纳米工艺就是intel 7,7纳米工艺是intel 5，5纳米工艺是Intel 3，不过到了intel 20A，则开始对应2纳米，至于intel 1.8A，目前英特尔还公布对应的工艺水平。
　　但是毫无疑问，无论是台积电的制造工艺，还是英特尔的制造工艺，都已经离不开EUV光刻机，事实上，EUV光刻机虽然才商用几年时间，但是已经开始更新换代，例如ASML已经升级了物镜的数值孔径，将数值孔径从0.33升级到0.55，目标是为了生产2纳米芯片所用，目前英特尔已经订购了一台该EUV光刻机。
　　不过无论是台积电还是英特尔等芯片代工厂，其工艺的发展速度依然很快，即便ASML已经推出了更先进的EUV光刻机，可以用于2纳米工艺，但是芯片代工厂将很快进步到2纳米工艺，例如台积电、英特尔，都有望在2024年就开始量产2纳米芯片。
　　所以对于ASML来说，对EUV光刻机的继续升级的脚步依然不能停，而且速度甚至还要加快，因为一台光刻机从订购到交付，往往需要18个月的时间，由此可见，ASML的压力其实很大。
　　而根据ASML公布的下一代EUV光刻机的发展路线图来看，其表示重点是发展高数值孔径的镜头，不得不说，这很难。
　　实际上，ASML将物镜的数值孔径从0.33升级到0.55，这已经是很大的突破了，如果短时间内再次大幅提升数值孔径，毫无疑问，关键就在于研发的进度了。
　　所以我们就看到，ASML不惜斥资20亿美元入股其镜头提供商蔡司，目的很简单，就是通过向蔡司注入资金，让蔡司有更充足的研发资金，加快研发进度。
　　但是ASML历史上，因为蔡司的镜头造成瓶颈的事情已经出现过，所以针对下一代EUV光刻机，这次ASML没有只是再单纯的依靠蔡司，而是又选择了与比利时微电子合作，合作目标就是研发高数值孔径的镜头。
　　不过无论ASML采用了什么办法，最终都需要由充足的资金来买单，其实这一点我们已经在前段时间看出端倪。
　　近日，欧洲的芯片法案刚刚落地，ASML很快就发布了长文，盛赞并支持和欢迎芯片方案的到来，其中有意希望ASML能够得到法案中提及的430亿欧元的支持。
　　实际上，ASML三十多年的发展历程，其一直在不断地寻找资金，在早期的时候，由于欧洲没有自己的光刻机生产企业，所以ASML得到了很多来自政府和欧盟的资金支持，帮助ASML一次次的渡过难关。
　　后来在其EUV光刻机原型机制造出后，依然需要大量资金才能保持继续研发，来让EUV光刻机达到商用的程度，为此ASML引入了英特尔、台积电和三星的资本入股，再次让ASML得到＂输血＂。
　　其实ASML得到这两次的资本＂输血＂，都有历史的特殊性，第一次我们已经讲过，而第二次来自代工厂的资本输血，是因为有利可图，因为ASML的EUV光刻机原型机已经研发出来，距离商用只剩下＂临门一脚＂，所以这时候投资ASML的风险很小，还能获得不菲的收益。
　　事实对此也作出了证明，后来英特尔不断的出售所持有的ASML股份，因为ASML的股价后来一路上扬，股价翻了十几倍，让英特尔大赚了一笔。
　　但是现在ASML的股价距离高峰时已经缩水了约25%，从最高时的近900美元跌倒了现在的约667美元。
　　所以对于ASML来说，从资本市场获得投资其实是很困难的，尽管其依然是EUV光刻机的唯一供应商，但是股价的一路下跌，表明ASML已经走过了高光时刻。
　　因此回头来看，英特尔等原来的客户股东不断减持抛售，股价低迷难以获得资本＂输血＂，所以ASML就再次将资金来源盯住在了欧盟方面。
　　不过现在来看，ASML不想看到的坏消息还是来了，这或许是ASML没想到的。
　　几乎是在同一天，日经方面表示，日本的＂半导体援助法＂将在3月1日正式实施，其中明确表示， 对符合条件的企业，将予以最高50%的设备投资金额补助。
　　毫无疑问，台积电在日本熊本县建设的工厂，几乎是唯一一个符合要求的企业，该工厂预计投资86亿美元，这么来说的话，台积电有望得到43亿美元的援助。
　　同时欧洲方面也传来消息，德国媒体报道称，已经确认，英特尔将会在德国马格德堡地区建立超级工厂，这座超级工厂将包括8座晶圆厂，预计投资800亿欧元。
　　用英特尔首席执行官的话说，＂我们正在建立一个小型城市＂。由此可见工厂的规模之大。
　　如果大家熟悉英特尔在欧洲的建厂计划就知道，之所以英特尔迟迟没有做出决定，就是因为与欧盟的补助没有谈妥，早在去年的时候，英特尔方面就表示，有意在欧洲建立工厂，但是需要建立在一定的条件上。
　　上面我们谈到，台积电是有可能得到日本50%的补助的，而现在台积电依然没有做出决定在欧洲建立工厂，想必还是对补贴不满意。
　　而现在英特尔既然做出决定在欧洲建厂，想必对于得到的补贴应该很满意。
　　然而这对ASML来说都不是好消息，因为虽然欧洲的芯片法案号称将会在未来投入430亿欧元，但是这些资金能否到位存在很大的疑问。
　　根据之前清华大学战略与安全研究中心的文章显示，在欧洲的这次芯片法案之前，欧盟方面已经提出过类似的目标，也就是2030年数位罗盘，该芯片计划最终没有实现。
　　不仅如此，该法案的资金，其中300亿欧元来自国债，由于只有少数国家可以从法案中获益，所以将会影响各成员国对法案落实的意愿。
　　而且德国财政部长林德纳还曾多次发出通胀风险警告，所以成员国对大规模公共投资的兴趣也可能不足。
　　另外的130亿欧元，还需要来自私人的投资，能够撬动私人资金，其实也是有很大的问号。
　　然而就在我们对此持怀疑态度之时，德国半导体巨头英飞凌，却似乎验证了我们的猜测。
　　就在该法案公布一周后，英飞凌就宣布将会投资20亿欧元，建立新的芯片工厂，但是工厂却并不是在欧洲，而是在亚洲的马来西亚。
　　试问如果英飞凌可以得到欧洲芯片法案补助的话，那么怎么会选择自己投资到马来西亚建立新工厂呢？
　　很显然，这次欧洲的芯片法案，在执行上其实还是有很大的难度的，尤其是资金来源方面，430亿欧元的获取存在很多的阻力。
　　不仅如此，在该芯片法案上，有一个明确的目标，就是在2030年，要让欧洲的芯片产能占比在全球达到20%，比现在翻了一倍还多。
　　而且通过上面的最新消息来看，欧洲的芯片法案似乎更青睐于将资金补贴给芯片代工厂，而不是IDM企业，而像ASML这样的设备制造商就更要靠后了。
　　这不难理解，因为欧洲的芯片法案，主要是为了解决芯片产能在全球占比不高的痛点，而ASML的EUV光刻机，已经发展到第四代，ASML只不过在为了第五代EUV光刻机寻找资金，因此对于资金紧张的欧盟来说，＂输血＂ASML还不到时候。
　　所以我们说EUV光刻机要＂变味＂了，由于之前英特尔等的资本＂输血＂，让ASML完成了EUV光刻机前三代的研发，虽然看似跨越了三代，但是提升都不大，我们甚至可以将其归结为是同一代产品。
　　但是其第四代，也就是采用数值孔径为0.55的EUV光刻机，耗费了ASML不少的财力，然而现在却只销售出了1台，巨额投入后没有看到可观的回报，这也解释了为何ASML要寻求外部资本。
　　不过我们也看到，ASML好像有点着急了，这不难理解，因为ASML并不是没有竞争对手。
　　虽然在EUV光刻机上，ASML是唯一一家，但是要达到EUV光刻机的效果，却不是只有EUV一条路。
　　根据媒体报道称，另一个光刻机巨头佳能，早在18年前就开始研究纳米压印光刻机，据悉已经可以实现5纳米工艺，而且该技术比EUV技术具备很多优势。
　　因此从这个方面来看，ASML急于寻找资金来加速研发，希望在更短的时间内继续扩大领先优势，也就可以理解了。
　　所以EUV光刻机的＂变味＂可能刚刚开始，科技的星辰大海并不是只有一条路可以走，对于光刻机后续的发展，我们也将持续关注。
　　对此大家怎么看呢？我们评论区见。