突破卡脖技术？中企接连传来捷报，ASML开始不淡定了

　　大家都知道，中美之间的科技博弈已经持续了五年之久，为了达到遏制我国高科技产业发展的目标，近几年来老美不断在半导体上做文章，不是联合其他半导体强国对中国半导体产业进行技术封锁，就是将华为、龙芯中科等中企拉进实体清单。可以说，美国的这种做法就是赤裸裸的＂科技霸权＂。
　　正如比尔盖茨所言：一味地打压，只会＂迫使＂中国花更多的时间和金钱制造自己的芯片。而事实上的确如此，为了打破＂卡脖子＂技术，中国半导体行业把自主研发放在了发展的第一位。经过几年的潜心研究，无论是在芯片制造工艺方面，还是在半导体设备方面，中企都已经取得了一个又一个的重大突破。
　　也正是因为如此，荷兰光刻机巨头ASML开始不淡定了。一方面，ASML高管心虚地表示如果中国能够生产出光刻机，那么全球光刻机产业链的进步将受到影响。另一方面，ASML不断向中国市场示好，并表示会尽量把光刻机卖给中企。
　　那么问题来了，ASML为什么会这么心虚？其实答案很简单。要知道，作为全球最大的光刻机供应商，ASML在光刻机领域拥有绝对的话语权，而其靠着垄断EUV光刻机更是赚得盆满钵满。如果中国入局光刻机制造领域，并取得重大技术突破，那么按照中国制造的物美价廉，未来光刻机就会成为白菜价。而ASML在光刻机领域垄断的地位也会不保，光刻机＂暴利时代＂也将终结。很显然，这是ASML不愿意看到的情况。
　　其实，ASML的担心也不无道理。近几年来我国半导体行业的发展是有目共睹的，无论是从60nm到45nm，还是从28nm到14nm，我们都是在老美的封锁中实现了量产。
　　就在前不久，上海微电28nm封装光刻机完成了交付，这也让ASML等半导体设备厂商坐立不安。因为按照这样的发展速度，迟早有一天中国市场会实现14nm、7nm光刻机的自主生产，届时ASML等设备企业就将彻底失去中国市场，全球市场份额也会受到中国制造的冲击。
　　让人感到振奋的是，除了光刻机之外，中企在光刻胶等原材料领域也接连传来捷报。捷报一是，卓芯杰国产光刻胶项目正式落户苏州太仓。要知道，这个项目是由于刘颖博士团队领衔，目的就是为了突破半导体材料＂卡脖＂技术，研发可用于生产7到14nm芯片所需的193nmArF光刻胶。
　　捷报二是，南大光电已经有两款ArF光刻胶产品在技术节点上通过认证，并实现少量销售，而这两个技术节点分别是存储芯片50nm和逻辑芯片55nm。
　　捷报三是，晶瑞电材子公司瑞红电子研发的KrF光刻胶产品的分辨率已经达到0.25-0.13μm的技术要求，而且还通过了一部分下游客户的测试，部分KrF高端光刻胶产品也已经实现量产。
　　以上三条捷报消息足以证明，国产AiF光刻胶的研发已经步入正轨，而随着中芯国际、长江存储等国产企业的产能扩张，高端光刻胶的国产化替代也将迎来里程碑式的进展，打破欧美的垄断只差临门一脚。
　　值得一提的是，我国半导体行业已经掌握了量子芯片和碳基芯片等新一代半导体领域的核心技术，对传统芯片实现换道超车也进入了倒计时。一旦我们实现量产，那么ASML生产的EUV光刻机就将彻底变得一文不值，到时候就算求着我们买，我们也不稀罕了。对此，你们怎么看？欢迎大家留言点赞分享。
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