IT之家8月26日消息据韩媒BusinessKorea报道，三星电子设备解决方案（DS）业务部首席技术官JeongEunseung宣布，作为下一代代工微制造工艺的核心，全环绕栅极（GateAllAround，GAA）技术将尽早实现商业化。
　　Jeong在8月25日在线举行的三星技术与职业论坛上发表主题演讲时说：我们正在领先于我们的主要竞争对手（台积电）开发GAA技术，如果我们攻克这项技术，我们的代工业务将能够进一步发展。该论坛是由三星电子的DS业务部创建的，旨在吸引全球工程师。
　　IT之家了解到，GAA被认为是3纳米工艺的一个关键部分，在不久的将来将被全球顶级代工企业采用。其关键是将在半导体内部充当电流开关的晶体管的结构从3D（FinFET）改为4D（GAA）。据三星电子称，2019年其与客户进行的3纳米GAA工艺设计套件测试显示，GAA技术将芯片面积削减了45，并将电源效率提升了50。
　　业内分析人士表示，谁会首先将GAA技术商业化还是未知数，这是因为台积电也在积极地将该技术提前实现商业化。2011年至2020年间，全球GAA专利的31。4来自台积电，三星电子的专利占20。6。
　　三星电子表示，其在技术方面与台积电的竞争不相上下，Jeong说，三星在2017年开始了代工业务，但我们将凭借在内存半导体方面的专有技术超越台积电，他举例说，三星电子比台积电更早开发了装载FinFET技术的14MHz产品。

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