消息称苹果将在A15芯片中使用台积电的增强版5纳米技术

　　据台湾工商时报报道，苹果今年下半年推出新款iPad及iPhone12产品线，采用自家设计的A14系列处理器，其中，iPadAir及iPhone12全系列都采用A14应用处理器，至于即将在11月发表的Arm架构Macbook则会採用自行研发的A14X处理器。苹果A14以及A14X均已在台积电采用5纳米制程量产。
　　消息称，苹果已着手进行新一代A15系列处理器开发，预期会采用台积电5nm加强版（N5P）制程，明年第三季开始投片。
　　晶圆代工龙头台积电及微影设备大厂ASML于上周法人说明会透露了更多3纳米细节。台积电3纳米采用鳍式场效电晶体（FinFET）架构及极紫外光（EUV）微影技术，逻辑密度与5纳米相较将大幅增加70，且EUV光罩层数将倍增且超过20层。因此，台积电积极采购EUV曝光机设备，未来三五年仍将是拥有全球最大EUV产能的半导体厂，包括家登及崇越等供应商可望受惠。
　　台积电EUV微影技术已进入量产且制程涵盖7纳米、6纳米、5纳米。据设备业者消息，台积电7纳米采用EUV光罩层最多达四层，超微新一代Zen3架构处理器预期是采用该制程量产。6纳米已在第四季进入量产，EUV光罩层数较7纳米增加一层，包括联发科、辉达、英特尔等大厂都将采用6纳米生产新一代产品。
　　台积电下半年开始量产5纳米制程，主要为苹果量产A14及A14X处理器，包括超微、高通、辉达、英特尔、博通、迈威尔等都会在明年之后导入5纳米制程量产新一代产品。5纳米EUV光罩层数最多可达14层，所以Fab18厂第一期至第三期已建置庞大EUV曝光机台设备因应强劲需求，台积电明年将推出5纳米加强版N5P制程并导入量产，后年将推出5纳米优化后的4纳米制程，设备业者预期N5P及4纳米的EUV光罩层数会较5纳米增加。
　　台积电在日前的法说会中宣布，3纳米研发进度符合预期且会是另一个重大制程节点，与5纳米制程相较，3纳米的逻辑密度可增加70，在同一功耗下可提升15的运算效能，在同一运算效能下可减少30功耗。3纳米制程采用的EUV光罩层数首度突破20层，业界预估最多可达24层。
　　ASML执行长PeterWennink在日前法说会中指出，5纳米逻辑制程采用的EUV光罩层数将超过10层，3纳米制程采用的EUV光罩层数会超过20层，随着制程微缩EUV光罩层数会明显增加，并取代深紫外光（DUV）多重曝光制程。
　　台积电5纳米及3纳米的EUV光罩层数倍数增加，提供EUV光罩盒（EUVPod）的家登受惠最大，今、明两年产能均已被大客户预订一空。至于EUV产能大幅提高，代理EUV光阻液的崇越接单畅旺，订单同样排到明年下半年。