IT之家6月23日消息据韩国媒体ETNEWS报道，三星电子计划新建一家大型半导体工厂。鉴于面积比上一个增加了50以上，因此，它采用综合半导体工厂的形式，同时生产DRAM、NAND闪存和其他器件，并有望引入最新的工艺技术。据悉，P3计划于今年9月在平泽动工，于2021年完成。
　　三星电子平泽工业区航空摄影图源三星电子官网
　　IT之家了解到，三星电子此前在平泽已有名为P1和P2的半导体工厂，其中P2于去年完工。
　　据业内人士21日透露，三星电子正准备在平泽建设一所更大的的半导体工厂P3，预计今年9月动工。目前三星电子对于该厂的建设已经做了大量前期准备。
　　目前三星最大的半导体工厂P2长度为400米，据报道P3的长度将达到700米。P3预计将在明年8月前后完成，并在生产线调试完成后试生产，从2021年底开始量产最新工艺的芯片，包括生产图像传感器、DRAM、NAND和SoC处理器等半导体器件。
　　报道称，三星电子的目标是在2030年成为非内存半导体市场的领头者。

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