28nm光刻机设备受限！台积电计划被迫中断，国内院士早有预见？

　　近日美国宣布中断28nm制程产能设备向中国市场的出口，并禁止相关芯片制造商在未得到美国允许的情况下转移设备至中国。这一决定直接导致台积电在中国的扩产计划叫停，而国内院士早就呼吁优先发展28nm成熟制程工艺，不失为先见之明？
　　美国宣布停止向大陆出口28nm光刻机
　　中国在5G和新能源汽车领域处于世界领先地位，威胁到美国科技霸主的地位，因此美国开始制裁华为，继对华为芯片制造设备大力度卡脖子之后，又限制向中国出口制造先进芯片所需设备，意图以此来限制中国半导体发展。
　　不仅如此，近日美国又有了新招数，在28nm制程设备方面卡中国脖子。28nm制程的芯片产品在通信、智能驾驶等领域应用广泛，目前中国已经可以研制28nm以后的光刻机，而28nm及以前的制程芯片技术还不够熟练，仍需科研工作者的大量工作。
　　据外媒报道，美国已经停止向中国出售28nm光刻机，除此之外，美国变本加厉，要求第三方制造商未经美国允许不可将其设备出售至中国大陆。先进制程芯片制造设备受限是当前的突破口，而断供的背后何尝不是美国试图打击中国自主研发信心的狼子野心？
　　台积电的计划被迫中止
　　另外据报道，台积电早就计划投资近30亿美元在南京建晶圆厂来扩充产能，预计2022年下半年开始量产，并且在2023年达到月产近4万片的规模。
　　而毫无疑问，经此一事，台积电在中国扩充产能的计划夭折了。而台积电正是因为受台湾地区缺水缺电的地域资源制约，才另谋出路选择在大陆建厂。而如果不能在大陆建晶圆厂，台积电势必会将建厂目标转向美国等国家，带动美国半导体产业，最终受益的仍是美国。
　　国内院士曾呼吁优先发展28nm
　　其实不仅仅是台积电的产能扩充计划泡汤，国内芯片制造厂商中芯国际、华宏等同样被切断28nm光刻设备供应，28nm制程芯片的生产进入两难境地。关于28nm芯片如何发展的问题，已经有专家给出过当前的优先发展方向。
　　早在今年年初，中国工程院院士吴汉明就宣称，与其全力钻研7nm和5nm，国内更应该将重点放在28nm、55nm等成熟工艺制程上。很明显，吴汉明院士的呼吁是有先见之明的。
　　通常28nm被当做是半导体制程是否先进和成熟的判断点，但是据统计目前中国28nm半导体的自给率不超过20%，芯片短缺导致的直接后果是国内众多行业受制于人。与其一心一意追求7nm、5nm高端芯片，不如优先发展28nm成熟制程工艺，形成产业闭环来缓解芯片短缺的问题。
　　当然，我们不可能一直＂受制于人＂，28nm光刻机供应中断对我们的影响不是无法抵挡的，现有的光刻设备我们还可以使用。除此之外，据最新消息，上海微电子已有在2021年底制备出28nm深紫外DUV光刻机的计划，相信相关科研工作人员坚持不懈的努力终将取得成果，芯片国产化进程稳步前进，中国＂芯＂可以走出国门，走向全世界！