中国和美国工业化差距,中间隔着一台荷兰产EUV光刻机
随着美国制裁华为的事件越演越烈,中国市场对于高纳米芯片的需求也越来越紧迫
在现在这个高速发展的时代,谁拥有着高端纳米芯片,谁就能够主宰整个高端市场,并分走高端市场份额内最大的蛋糕。
与其说是芯片在主宰着高端市场,倒不如说是光刻机在主宰着高端市场。
一台荷兰ASML生产的世界上最顶尖的光刻机,在市场就能够卖到上亿美元一台,而且还供不应求。
其实了解光刻机的人都知道,ASML生产的EUV光刻机,在科技圈的影响力,绝对是一种能够占据科技界金字塔顶尖位置的一种顶尖科技。
不光是因为它能够制造出低纳米芯片用来满足人类日常生活中,各种通讯聊天用品的需要,更重要的是它的本体,整合了全世界几乎所有国家,在光刻机领域内最顶尖的科技技术,它是全世界众多国家共同研发打造的技术结晶,它更像一件工艺品,从这一点来看它的技术价值自然也是不可估量的。
科技界一直流传着一句话,谁拥有着高端光刻机,谁就等于拥有了未来,这句话不是吹的,而是光刻机自身实实在在提现出来的价值。
我国曾经一度在光刻机领域内,差一点就能够追赶上美国和西方的步伐,但是随着国内造不如买、和用市场换取技术的潮流声与呼声越来越高,那些为了光刻机能够持续投资,进行研发的声音也逐渐的被淹没掉了,最后落下了运10和大型粒子对撞机一样的后尘。
在当时,网络上还有着很多对中国在停止研发光刻机技术后,各种惋惜的声音。
其实很多人都不知道,我国早在1965年,就已经研发出了第一台65型接触式光刻机,而当时,荷兰的ASML公司在1984年才刚刚成立,足足相差了21年,荷兰能够完成对中国的超越,和当时那种推崇《造不如买》的举措密切相关,《市场换技术》也在其中起到了推波助澜的大作用。
这也是至今还受国人诟病的原因之一,这种亲者痛、仇者快的事情后面又接连发生了两次,《运十》和《大型粒子对撞机》的下马,事情已经过去多年,说多也无益,现在摆在中国人面前的不是那句没有任何一个国家能够独立制造光刻机,而是中国在光刻机领域切切实实需要进行突破,我们不可能去虚与委蛇的求美国,美国也不愿意看到中国强大,这件事情的本质已经很明显,再进行争论也是多余的。
其实光刻机的制造原理都已经不再是秘密,我国早在六七十年代就已经掌握,但是真的要造出来,并实现低纳米芯片的生产和商用,却比登天还要难。
就拿荷兰EUV光刻机来举例:
一台荷兰ASML生产的EUV光刻机,仅仅是零部件就达到了十几万,并且这些零件的制造技术、材料、专利,分别被美国、德国、日本、法国、荷兰、韩国、台湾等众多国家和地区牢牢掌控着,并且还各自签署了保密协议,不可能会外泄。
这就导致了中国不能通过收购这些公司来进行高端光刻机国产化的研发,因为美国不仅会从中阻扰,并且这么多的零部件企业全部收购所需要花费的财力那是无法统计的,所以中国在自主研制光刻机这方面,还有很长的路要走。
这也是为什么吴汉明院士会说,靠一个国家去发展光刻机是不现实的原因。
芯片制造工艺
光刻机的研发,从基础材料到制造工艺,每一个零部件都必须从目视到量具检测、显微镜观察,再到X光的扫描,只有经过异常严格的质量检测,最后才能通过并进行组装。
另一个方面,一台高端光刻机之中十几万个零部件所涉及的产业链、公司和人员将是无比巨大的。
按照我们目前的科技实力,在未来十年都不一定能够造出顶尖光刻机,十年时间ASML的光刻机技术又会发展到什么地步,是不是还原地踏步等着中国超越?这一点我们没有人敢去下这个结论。
我国虽然在很多方面已经超越美国问鼎世界第一,但是这些技术对光刻机的研发起不了任何作用。(小编不是说这些科技技术没有用,小编只是陈述这些科技用在光刻机研发上起不了作用,毕竟技术也是有区分的,我们不可能强行把牛头装在羊身上对不对。)
这也是为什么我会说, 中国和美国的差距中间只隔着一台荷兰ASML生产的顶尖光刻机的原因。
其实我国和美国的差距真的就隔了一台荷兰产EUV光刻机,这不是小编在胡编乱造,而是事实。
中国现在不光在航空航天、人工智能(AI)、高端机床(铸锻铣一体化3D打印机)、无人驾驶、国防体系、无人机系统,量子计算机、高端冶金技术等领域都已经和美国保持齐平,唯独芯片技术一直是我国的《芯》病。
目前我国最强的低纳米芯片制造商,是上海微电子研究所28nm工艺的国产沉浸式光刻机,但是距离荷兰EUV光刻机的7纳米,就显得有些捉襟见肘了。
其实生产光刻机所需要的基础材料我国都已经能够自给自足,唯独制造工艺和制造设备是目前我们最短缺的。
假如中国能够在高端光刻机领域进行突破,那带来的价值和对国家网络信息化的建设将会起到至关重要的作用,在未来十至二十年,中国在经济、军事、科技领域就能够达到美国目前的地步。
中国是一个善于创造奇迹的国家,美国越制裁我们就越强大,总有一天中国人会想创造空间站一样,创造出属于中国人自己的光刻机。
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