半导体材料是集成电路制造中的＂血液＂， 目前我国在这一领域处于什么样的地位呢？
　　1、光刻胶领域
　　光刻胶是光刻的核心材料，关系到图形CD的精度和分辨率，因此非常重要。
　　长期以来，光刻胶一直被日本JSR、日本应化、日本信越、美国陶氏化学（收购了罗门哈斯）、日本住友化学等垄断，占据全球90%以上的销售份额。
　　我国目前在这一领域的主要有以下几家：
　　（1）北京科华微电子
　　目前研发和应用到 KrF（248nm） 级别的光刻胶并量产，对于 193nmArF光刻胶和EUV光刻胶还没有突破。
　　（2）晶瑞股份
　　晶瑞股份控股苏州瑞红，目前已经攻克KrF（248nm） 光刻胶并大量量产， 193nmArF光刻胶研发中，没有EUV光刻胶；
　　（3）南大光电
　　目前已经攻克KrF（248nm） 光刻胶和 193nmArF光刻胶，没有EUV光刻胶；193nmArF光刻胶刚研发出来，小批量量产中，大批量量产还需要一段时间。
　　（4）上海新阳
　　刚研发出来KrF（248nm） 光刻胶，还没有量产。没有 193nmArF光刻胶和EUV光刻胶。
　　综上，在国内光刻胶领域，南大光电目前处于领先，晶瑞和科华紧随其后。但EUV光刻胶国内还是空白，还有很大的追赶空间。

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