我国的光刻机什么时候才能突破封锁，达到先进水平？

　　这是科学技术，不是大会战。是少数人的智慧，不是大家能喊出来。短时间不可能追上，追上也是跟着跑。一八二二年法国人尼埃普斯发明了光刻机。咱们斗不过，换个技术不行吗？中国人不会发明另外一种工艺吗？
　　我们的国家不缺人才，但是嫉贤妒能的人更多。而这些人都分散在大小不同的重要岗位。从联想可以看到对科技重视的程度，从柳传志和倪光南可以看到科技人员的地位，从社会关系里更能看到科技人员的孤立。所以不难想到结果。
　　光刻机封锁是连技术带产品的封锁，而且是层层的封锁，目前为止一共有三道。我国在21世纪的前二十年里已经接连突破了两道封锁线，形成了前所未有的自主攻势，毫无疑问，我国在什么时候突破第三道封锁线，决定权就在我们国内光刻机企业的手里；国外在什么时候解除第三道封锁线，主动权也在我们国内光刻机企业的手里，而到了突破或者解除的那个时候，我国光刻机大概率只会是达到世界先进水平的，还没能达到世界领先水平，即不是世界顶级的光刻机，却能以前所未有的高速度，接着突破国外又设置的第四道封锁线，向世界顶级发起冲锋。
　　低端和中端光刻机的封锁已经被解除了。两道封锁线都已经荡然无存了！美国和荷兰像是自动解除、提前解除封锁的，近年来让ASML连DUV中端光刻机都卖给我们国内企业那么多台了，是在我国光刻机企业还没有宣布国产中端光刻机下线消息的情况下。看来，是由于知道我国光刻机企业已经突破了中端技术，并且已经转化为了中端产品，只是还停留在生产线上，待突破、能突破技术难关，而在下线后，对中端技术的封锁也就不解自除了。由此可知，我国光刻机企业是打破封锁的决定者，主要依靠的是自己对相关技术的突破，而美国和荷兰解除封锁则是被动的，不得不自动解除，而且只剩下供应产品这 1 个持续不了多长时间的选择了，相关技术的输入不再被需要。
　　什么时候才能突破高端光刻机产品的封锁要看什么时候才能基本突破高端光刻机技术。都会是在什么时候？我国光刻机企业基本突破高端光刻机技术并推出将很快下线的高端光刻机产品，会在未来的八年十年那时，在此之前的二三年里，美国和荷兰就会解除对高端光刻机产品的封锁。我国待突破的封锁线是第三道，是目前为止的最后一道，即对目前为止属于世界领先水平的高端光刻机技术和产品的封锁。现在和在将来的一个时期内，我国企业买不来EUV光刻机产品，我国的光刻机企业更买不来EUV技术，这是由于美国和荷兰知道我国光刻机企业一时半会儿还不能突破相关的技术，技术转化为高端零部件直至整机的时间则是更长的，而现在不卖给EUV光刻机产品，就会让我国光刻机企业突破技术和作出产品的时间再长一些，从而让我国需要EUV光刻机和需要高端代工、需要高端芯片的企业分别发展得慢一些、更慢一些；也是因为同时知道我国光刻机企业最终必定能够突破和作出高端光刻机的技术和产品，但心里已经习惯性地做好了在突破后、作出前再卖给产品的打算。美国和荷兰的等待是主动的，宁肯让ASML挣不到我国的钱，虽然听说ASML已经迫不及待了，而到时候让卖给产品却是被动的，无奈之下做出的唯一选择。
　　光刻机的制造和应用，不能像我们出气一样，那么自然而然的容易，这是我国的科技短板，不能一蹴而就的解决，否则，美国也不会掐我们的脖子了。我们要紧跟党中央的步伐，听从政府的安排，遵循科技发展的规律，不要急于求成。再说了，我国的发展速度确实是神速的，我国人民有好的传统做铺垫，又有很强的凝聚力量做支撑，又有很好的政策做后盾，相信不远的将来，这些科技短板一个一个都要被攻克。我们不要急躁，要对我国的科技事业充满信心，要团结，要拧成一股绳，中国的文明发展一定会一往无前的。
　　只要有爱与奉献的革命大无畏精神，向老一辈的无产阶级革命家和早期的科学家们学习，就引用伟大领袖毛主席的一句话，世上无难事；只要肯登攀！那么世界永远属于中国人民领航。
　　没有压力就没有动力，我国近代发展史就是一部被国外反华势力围堵和压迫史，两弹一星、载人航天不都照样成功了吗？所以，相信不用太久，此项技术在我国科研人员的辛勤努力下会研制成功的。[赞][赞][赞]
　　再过一百年
　　光刻机跟原子弹氢弹不一样，是时刻在进步，而且速度飞快，又是一个要求经济性的产品，中国目前赶上来还有点困难，多部门协同是先决条件，部分技术难关没有解决也比较麻烦，技术封锁，专利壁垒又客观存在，短期来看用五年时间把差距缩小就属于重大胜利了！
　　我预计五年实现突破，十年达到先进水平。
　　不出10年必定翻身。