首台国产光刻机入驻，代表着国产光刻机的重大技术进步

　　美国拉拢日本和荷兰组建所谓的封锁联盟，连用于成熟工艺的DUV光刻机也试图不卖给中国芯片，阻止中国芯片的发展，然而随着中国一家芯片企业的首台国产光刻机入驻生产线，美国的图谋恐怕又要落空了。
　　近日上海昆山的同兴达科技有两台国产光刻机入驻生产线，由上海微电子自主研发，这代表着国产光刻机的重大进步，突显出国产光刻机已迅速替代进口光刻机。
　　上海微电子是国内最大的光刻机企业，它早已量产了90纳米光刻机，目前正在加快推进28纳米和14纳米光刻机，这次交付给同兴达的光刻机为封测光刻机，不过这也代表着国产光刻机的重大进步，意味着国产的14纳米光刻机很快就能量产了。
　　尤为值得注意的是上海微电子交付给同兴达的光刻机价格相当实惠，两台光刻机才花了3600万元，只有ASML同等光刻机价格的七分之一，可见国产光刻机的超低成本优势，如此低成本的优势将有助于大幅降低国产芯片的成本。
　　事实上此前美国家电制造商就已证明了中国芯片的成本优势，美国家电制造商采用了中国芯片之后，认为中国芯片已具有美国同样芯片的功能，而价格却极低，中国有芯片企业表示国产芯片价格只有美国芯片的四分之一，随着国产光刻机的采用，成本将进一步下降。
　　国产光刻机的交付，意味着国产光刻机开始加速替代进口光刻机，这对于ASML来说将是巨大的压力，因为中国是全球最大的市场，2022年Q1和2021年中国就为ASML贡献了三分之一的收入，可见中国市场规模之大。
　　随着国产光刻机技术的快速进展，ASML高管认为再给中国芯片35年时间，中国就能研发出先进光刻机，这对ASML来说将是巨大的威胁，就如上述交付给同兴达的光刻机，价格只有ASML的七分之一，这样实惠的价格不仅国内企业欢迎，连海外企业都眼馋。
　　中国的芯片设备当中，技术最先进的当属刻蚀机，刻蚀机已达到5纳米，由于国产刻蚀机的技术水平已达到全球先进水平，而价格又非常实惠，连台积电都忍不住采购了国产的刻蚀机，可见国产芯片设备的竞争力。
　　随着国产光刻机的快速进展，ASML已经开始紧张了，ASML高管就表示如果限制它对中国出售DUV光刻机，那么中国迟早会研发出先进的光刻机，它担忧的正是中国的光刻机将会抢占它的市场。
　　其实ASML的光刻机技术正是来自中国人，当年ASML濒临倒闭之际，台积电的林本坚研发出了如今风行的浸润式光刻机技术，不过当时占据全球光刻机市场主导地位日本佳能和尼康却不愿采用，而ASML却孤注一掷找上台积电和林本坚，由此成为光刻机巨头，可见中国人在光刻机技术研发方面的优势，中国大陆突破光刻机技术也将是必然。
　　随着首国产光刻机交付给国内芯片企业，外媒惊呼中国光刻机技术的快速突破，由此认为美国的图谋恐怕又一次要落空了，美国最终将无法阻止中国芯片产业的技术进展，反而会因此加速了中国芯片产业链的完善。