荷兰做出选择！ASML迅速发表声明，中芯国际也正式回应了

　　之前就传出美日荷三方达成了协议，将对先进芯片制造设备共同实施限制。不过，有点意外的是，三分均未对外发布任何协议消息。于是，就引发了多种不同的猜测。
　　其中，就有日本方面将倾向于温和的方式实施限制，荷兰方面甚至都不愿意公开提及限制，但我们似乎都低估了三方协议。在日本限制消息透露后，荷兰也做出选择。
　　荷兰将推出限制新规
　　如今看来，三方达成协议后没有立即对外公布消息，美方是因为不想激怒日荷，这两方起初应该不太愿意，而日荷两方应该也还要权衡利弊，所以需要时间进行考虑。
　　之后，日本方面率先透露了实际限制的相关消息，计划于春季修改法令，限制出口制造先进半导体所需的设备。近日，日本相关专家更是直接透露了限制的相关细节。
　　日本新规将可能限制向中国派遣人力资源，还可以停止对之前售出的产品进行维护。
　　日本方面实施限制的信息基本明确，荷兰方面会有意外吗？当然不会，近日荷兰方面也传来了限制相关消息，计划对半导体技术出口实施新的限制，以保护国家安全。
　　消息源于荷兰对外贸易部长给议会的一封信，信中内容显示，荷兰将和美方一起实施先进芯片制造设备的出口管理，预计这一限制措施最快于2023年夏天之前出台。
　　至此，一切已经尘埃落定，日本方面本来就没有疑问，如今荷兰方面也做出了选择。
　　ASML迅速发表声明
　　对于荷兰方面即将推出限制新规，光刻机巨头ASML迅速做出反应，通过官网发布了关于出口限制的相关声明。其中，明确指出了新规主要针对先进的芯片制造技术。
　　即荷兰新规将限制最先进的沉积和浸没式光刻工具。ASML在声明中着重解释了最先进的范围，就是临界沉浸式，TWINSCANNXT：2000i和后续的沉浸式系统。
　　目前，ASML在售的浸没式光刻机主要有三大型号，分别为2050i、2000i和1980Di。
　　也就是说，如果限制开始实施，将会限制前两种，最后一种型号依然可以出货。这个1980Di的分辨率为小于等于38nm，这只是指单次曝光，多重曝光可支持到7nm。
　　台积电第一代7nm工艺就是用它实现的，不过成本太高、良率太低，根本不合适。因此，1980Di这款浸没式DUV光刻机主要用于14nm及以上的成熟制程工艺生产。
　　ASML明确表示，关注成熟节点的客户可以使用这款，还表示不会对2023年的营收和长期情况产生影响。这意思很明确吧，就是跟大陆市场的中企合作不会受到影响。
　　中芯国际也正式回应
　　另外，ASML还提到，如果想要出货最先进的浸没式DUV系统，将需要申请出口许可证，而EUV从2019年就开始受到限制。这意思也很明确，应该很难申请到许可。
　　对于荷兰即将发布新规，限制浸没式DUV光刻机出货，对我们中企影响最大的应该就是中芯国际了，因为目前大陆地区芯片制造技术最先进的就是它，能够量产14nm。
　　对此，荷兰新规是否会对中芯国际产生影响，有记者进行询问，中芯国际做出回应。
　　中芯国际相关工作人员表示，公司目前生产运营正常，目前并未收到相关通知。然而之前消息显示，中芯京城量产时间推迟一到两个季度，原因是因瓶颈机台未交付。
　　这个瓶颈机台据分析极有可能是光刻机。不过，中芯京城项目面向28nm及以上成熟制程，结合ASML发布的声明来看，使用1980Di这个型号的浸没式DUV就可以。
　　中芯国际的其他项目也都是28nm及以上成熟制程，因此应该不会受荷兰新规影响。
　　另外，不只是中芯国际，国内晶圆厂长江存储、华虹半导体等之前购买的都是这款浸没式DUV光刻机，并且ASML还将这款光刻机进行了升级，性能比之前型号更好。
　　从目前ASML发表的声明情况来看，我们的成熟制程所用的光刻机及售后服务不会受到影响。不过，限制了我们向先进制程发展，看来还得寄希望于国产光刻机突破！