中企传出消息，国产芯片制造设备完成验证，加速替代进口设备

　　在近些年中，由于拜登政府对我国半导体领域实施了多次限制，以至于我国不得不选择走向自主研发、生产的道路。
　　但基于中企本身在半导体领域，没有太过于厚实的底蕴，所以很多人认为短时间内实现自给自足完全是天方夜谭，如今中企传来两个新的好消息，加速替代进口设备！
　　早在2年多前，上海微电子开启了28nm制程光刻机设备的研发项目，号称将会在2年内落地商用，但眼看两年之约即将到来，28nm制程光刻机却了无音讯。
　　如今新消息终于来了，大家都知道光刻机是整个半导体生产线设备中难度最高的，即便曾经EUVLCC联盟集合了全球大量尖端力量，也花费了十几年的时间才造出了EUV光刻机。
　　而我国对于光刻机设备的研发却是仅凭自己的力量，好在如今也得到了不错的结果，上海微电子供应链传来新消息，目前28nm制程光刻机已经通过了技术测试和认证。
　　可以说技术验证是一台光刻机设备的最后几步之一，同时也是最重要的步骤，这个环节完美通过之后等于这款光刻机已经距离成功八九不离十了。
　　别着急高兴，还有一个好消息，不久前还有一个企业宣布了半导体设备的突破，国产半导体生态设备厂商芯源微表示旗下的28nm制程浸没式高产能涂胶显影机可以开始投入量产。
　　同时解释道，2022年12月份，旗下的首款浸没式高产能涂胶显影机交付了，如今客户给予了使用评价，目前已经完美通过了各项工艺的验证，同时也达到了客户量产指标。
　　意味着这款浸没式高产能涂胶显影机已经和国际上同水平的28nm制程生态设备差不多了，较比于东京电子、尼康、ASML的同阶段产品持平。
　　要知道涂胶显影机是半导体生态链的重要设备，研发难度仅次于光刻机设备，而如今等于是象征了我国在涂胶显影机领域上已经研发成功。
　　不仅如此，当上海微电子的28nm制程光刻机和芯源微的浸没式高产能涂胶显影机投入商用之后，国内可以直接建立纯国产的28nm制程半导体生产线。
　　要知道目前来说，这种成熟工艺制程的芯片可以满足国际市场上超过80的订单，中芯国际主打的战略部署就是28nm制程，目前产能提升已经致使该企业可以出口28nm制程芯片。
　　而美日荷联盟现今恰好对DUV光刻机实施限制，本质上来说对28nm制程生产线将会造成不小的影响，但基于如今可以实现国产28nm制程半导体生产线，所以处境得到了缓解。
　　值得一提的是基于国产替代的半导体设备出炉之后，美日荷联盟的秘密协议将会失去一半的效用，尤其是对DUV光刻机的需求将失去一大半。
　　当然，除了上海微电子和芯源微的半导体设备获得突破，国内半导体领域也迎来了不少好消息，多家半导体中企营收呈现大幅度增长。
　　根据华海清科的财报显示，2022年的营收达到了11。33亿人民币，呈现出高达109的同比增长，净利润同比增长159。97，虽说只是新晋的中企，但绝对是一个不错的趋势，毕竟从0至1的突破是最难的。
　　而同时新晋半导体中企的拓荆科技，2022年营收达到了9。92亿人民币，同比增长125，净利润同比增长438。09。
　　可见基于大量中企投入半导体领域，整体的发展趋势还是不错的，不少新晋企业也纷纷在市场上立足，即将迎来大力发展提升营收的阶段。
　　当然，作为国内老牌半导体企业的中芯国际、北方华创、上海微电子等企业，纷纷出现了不同程度的营收上涨，发展前景一片良好。
　　反观作为美企半导体巨头的高通、英特尔、英伟达、AMD等厂商，均出现了大幅度营收下滑，目前由于老美打算继续加码限制的缘故，甚至导致美企有着翻脸的迹象。
　　最后，根据SEMI报告数据显示，国内半导体设备的国产自给率从2021年的21提升到了2022年35，可见真的印证了比尔盖茨的预测，老美的加码限制使得我国进一步提升了产品自给率。
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