众所周知,目前主流的光刻机分为两种,一种是EUV,一种是DUV。 EUV光刻机是指采用波长为13。5nm的极紫外线的光刻机,主要用于生产7nm及以下的芯片,目前全球仅有荷兰的ASML一家能够生产。 而DUV则是指采用193nm的ArF光源,或者采用157nm的F2的准分子光源,用于生产10130nm的芯片。 虽然,EUV光刻机只有ASML一家能够生产。但能够生产DUV光刻机的厂商还是好几家的,比如日本的尼康、佳能,中国大陆还有上海微电子,其中尼康的DUV光刻机,精度能够达到10nm,而佳能还处于90nm。 上海微电子公开的信息,也是只能生产90nm的,据称28nm的已研发出来,但还没有公开信息。 所以一直以来,国内进口ASML的DUV光刻机为主,因为EUV光刻机太先进了,美国不允许荷兰ASML卖给我们。 至于DUV光刻机,用于生产一些美国认为成熟的芯片,也就无所谓了,所以ASML、尼康、佳能都能够卖给中国大陆。 去年ASML还表态称,DUV光刻机是可以随便卖的,只有EUV光刻机不行。 不过近日,有媒体报道称,一是美国正在想办法推动荷兰政府,禁止ASML向中国大陆出售DUV光刻机,以阻止中国芯片技术崛起。 不仅如此,媒体还报道称,美国除了想推动ASML不向中国出口DUV光刻机外,还想向日本施压,不让日本的光刻机供应商向中国也提供DUV光刻机,比如尼康、佳能等。 可以说,美国就是计划全面阻止中国买到光刻机,不仅仅是EUV,连DUV都不行。 当然,目前不管是ASML,还是尼康、佳能都没有对这一消息置评,但从这前的反应来看,ASMLCEOPeterWennink曾表示,不希望禁止向中国大陆客户销售DUV光刻设备。 但不管怎么样,国产光刻机必须崛起才行了,不说EUV,先把DUV也提升至10nm,然后慢慢向EUV进攻,否则就真的要被卡死了。 不仅先进工艺无法推进,连成熟工艺都要受限了,这可就是大事了。