坚决反对!ASML就光刻机新规正式表态,中国院士放弃幻想
在二十多年前,时任科技部长的徐冠华就曾表示,中国信息产业"缺芯少魂",如果不弥补这些短板,未来可能会受制于人。没想到的是,在二十多年后的今天,这份担忧果真成了现实。
美国为了阻碍我国高科技的发展,近几年频繁修改芯片规则,不仅限制美芯对华为等中企的出口,而且还切断了台积电对海思芯片的代工渠道,甚至连EUV光刻机这项高端造芯设备都被限制对华出口。
作为全球唯一能生产EUV光刻机的厂家,ASML对此也是无可奈何,毕竟其产线上含有大量的美国配件和技术,人在屋檐下不得不低头。
但庆幸的是,主要应用于10nm节点以上芯片制程的DUV光刻机尚能出货。为了不失去中国这个庞大的消费市场,在这两年时间里,ASML接连与中芯国际等中国芯片厂商签订了数十亿美元的DUV设备出口合同。
得益于此,结合中企在芯片自研方面的不断投入,我国芯片产业并没有因为老美的封锁而止步,除了高端Soc芯片之外,其他类型国产芯片的自给率都得到了大幅提升。
据公开资料显示,中企今年前五个月的芯片进口数量同比去年减少了283亿片,减幅高达11.4%。相比之下,以出口为主的美半导体市场却出现了严重的库存积压,美媒更是呼吁中企,希望能够帮他们消耗库存。
对妄图与我国科技脱钩的老美而言,这样的结果显然不是它想要的。鉴于老美对我国高科技崛起的忌惮程度,有不少专家猜测,它必然不会甘心、也不会就此善罢甘休。
果然,近日美国传出消息,计划进一步向荷兰ASML以及日本尼康等光刻巨头施压,以制定新规,限制它们对中国大陆市场出货DUV光刻机。
要知道,DUV光刻机是成熟工艺芯片制造不可或缺的设备,而成熟工艺芯片的市场需求仍占比70%以上,如果没有足够的DUV设备支持,将会在很大程度上影响到国产芯片的产能,最终可能会导致我们不得不再次提升对美半导体市场的依赖。
但意料之外的是,不像之前遵守老美对EUV设备的限制规定,ASML此次就DUV设备的出口问题,态度发生了很大的改变。
据悉,ASML方面已作出了正式表态,坚决反对光刻机新规的实施。
其CEO更是发出警告:不管是成熟芯片制程或者是主流制程,均离不开中国厂商的参与,中企是非常重要的供应商,如果停止向中企出口光刻机,那么全球半导体产业链将会面临中断。
事实也的确如此,我国不仅是全球最大的芯片消费市场,而且还拥有超过60%以上的氖气等稀有气体材料的自给率。氖气等稀有气体被广泛应用于芯片制造和光刻领域,在俄乌氖气供应出问题后,我国就成了关键的选择之一。
鉴于这样的情况,如果ASML能始终保持坚决反对的姿态,那么老美制定的光刻机新规,估计就很难落地实施了。对于正处爬坡破冰阶段的国内芯片市场而言,这无疑是一个利好的消息。
不过,即便DUV出货不受限制,我们仍不能放松警惕,正如中国院士倪光南所说:国产芯片的崛起之路没有捷径,我们必须放弃幻想,身体力行的去完成全面的国产化替代。
值得强调的是,ASML之所以极力反对光刻机新规,并非是好心助力我国半导体产业的发展,而是因为我们的中低端国产光刻机即将突破瓶颈。它在无法出口EUV光刻机的前提下,如果连DUV都无法出口,那可能真的要被排除在我国市场之外了。
据媒体之前多次报道的消息显示,上海微电子自研的国产DUV光刻机,最迟将于明年落地。这或许就是ASML在近两年大规模向我们降价倾销DUV设备的主要原因,其目的是抢占市场先机,挤压国产光刻机的发展空间。
过去早已多次证明,对于我们没有的技术设备,西方国家或企业会实施技术封锁或者大幅溢价,而对于我们即将突破或者完成突破的技术设备,他们又会主动寻求合作,抢国内厂商的"饭碗",盾构机就是前车之鉴。
因此,不管ASML关于DUV光刻机出货的最终结果如何,我们都必须保持研发力度,早日实现光刻机的国产化,因为谁有都不如自己有!
何况美帝主义亡我之心未死,未来指不定又有其他新的"招数"。我们若不想再被"卡脖子",最根本的解决办法就是做到"手中有粮",只有这样,方可从容面对各种潜在的危机和多变的形势。
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