坚决反对！ASML就光刻机新规正式表态，中国院士放弃幻想

　　在二十多年前，时任科技部长的徐冠华就曾表示，中国信息产业缺芯少魂，如果不弥补这些短板，未来可能会受制于人。没想到的是，在二十多年后的今天，这份担忧果真成了现实。
　　美国为了阻碍我国高科技的发展，近几年频繁修改芯片规则，不仅限制美芯对华为等中企的出口，而且还切断了台积电对海思芯片的代工渠道，甚至连EUV光刻机这项高端造芯设备都被限制对华出口。
　　作为全球唯一能生产EUV光刻机的厂家，ASML对此也是无可奈何，毕竟其产线上含有大量的美国配件和技术，人在屋檐下不得不低头。
　　但庆幸的是，主要应用于10nm节点以上芯片制程的DUV光刻机尚能出货。为了不失去中国这个庞大的消费市场，在这两年时间里，ASML接连与中芯国际等中国芯片厂商签订了数十亿美元的DUV设备出口合同。
　　得益于此，结合中企在芯片自研方面的不断投入，我国芯片产业并没有因为老美的封锁而止步，除了高端Soc芯片之外，其他类型国产芯片的自给率都得到了大幅提升。
　　据公开资料显示，中企今年前五个月的芯片进口数量同比去年减少了283亿片，减幅高达11。4。相比之下，以出口为主的美半导体市场却出现了严重的库存积压，美媒更是呼吁中企，希望能够帮他们消耗库存。
　　对妄图与我国科技脱钩的老美而言，这样的结果显然不是它想要的。鉴于老美对我国高科技崛起的忌惮程度，有不少专家猜测，它必然不会甘心、也不会就此善罢甘休。
　　果然，近日美国传出消息，计划进一步向荷兰ASML以及日本尼康等光刻巨头施压，以制定新规，限制它们对中国大陆市场出货DUV光刻机。
　　要知道，DUV光刻机是成熟工艺芯片制造不可或缺的设备，而成熟工艺芯片的市场需求仍占比70以上，如果没有足够的DUV设备支持，将会在很大程度上影响到国产芯片的产能，最终可能会导致我们不得不再次提升对美半导体市场的依赖。
　　但意料之外的是，不像之前遵守老美对EUV设备的限制规定，ASML此次就DUV设备的出口问题，态度发生了很大的改变。
　　据悉，ASML方面已作出了正式表态，坚决反对光刻机新规的实施。
　　其CEO更是发出警告：不管是成熟芯片制程或者是主流制程，均离不开中国厂商的参与，中企是非常重要的供应商，如果停止向中企出口光刻机，那么全球半导体产业链将会面临中断。
　　事实也的确如此，我国不仅是全球最大的芯片消费市场，而且还拥有超过60以上的氖气等稀有气体材料的自给率。氖气等稀有气体被广泛应用于芯片制造和光刻领域，在俄乌氖气供应出问题后，我国就成了关键的选择之一。
　　鉴于这样的情况，如果ASML能始终保持坚决反对的姿态，那么老美制定的光刻机新规，估计就很难落地实施了。对于正处爬坡破冰阶段的国内芯片市场而言，这无疑是一个利好的消息。
　　不过，即便DUV出货不受限制，我们仍不能放松警惕，正如中国院士倪光南所说：国产芯片的崛起之路没有捷径，我们必须放弃幻想，身体力行的去完成全面的国产化替代。
　　值得强调的是，ASML之所以极力反对光刻机新规，并非是好心助力我国半导体产业的发展，而是因为我们的中低端国产光刻机即将突破瓶颈。它在无法出口EUV光刻机的前提下，如果连DUV都无法出口，那可能真的要被排除在我国市场之外了。
　　据媒体之前多次报道的消息显示，上海微电子自研的国产DUV光刻机，最迟将于明年落地。这或许就是ASML在近两年大规模向我们降价倾销DUV设备的主要原因，其目的是抢占市场先机，挤压国产光刻机的发展空间。
　　过去早已多次证明，对于我们没有的技术设备，西方国家或企业会实施技术封锁或者大幅溢价，而对于我们即将突破或者完成突破的技术设备，他们又会主动寻求合作，抢国内厂商的饭碗，盾构机就是前车之鉴。
　　因此，不管ASML关于DUV光刻机出货的最终结果如何，我们都必须保持研发力度，早日实现光刻机的国产化，因为谁有都不如自己有！
　　何况美帝主义亡我之心未死，未来指不定又有其他新的招数。我们若不想再被卡脖子，最根本的解决办法就是做到手中有粮，只有这样，方可从容面对各种潜在的危机和多变的形势。