西方认为不可能的芯片技术，中国在加速推进，光刻机将不再重要

　　近日中科院原始郭光灿本源电子宣布已研发出首款量子芯片EDA软件，此前它已在量子芯片生产方面取得进展，随着量子芯片EDA软件的出现，代表着我国在芯片技术方面的重大突破，ASML的光刻机将不再成为中国芯片产业发展的重大障碍。
　　近10年来，中国一直在量子计算方面走在世界前面，早在2011年中国就建立了量子卫星技术研究，2016年中国发射了首颗量子卫星墨子号，此后量子技术开始进入快速发展阶段，推动了中国量子计算产业加快推进实际应用。
　　到如今中国已先后发布了九章一号、九章二号量子计算机原形，并且有更多科技企业加入其中，阿里巴巴研发了超导量子技术，华为则公布了量子芯片专利，在诸多民营企业的加入后，量子计算技术进入民用将是迟早的事情。
　　随着量子计算技术的推进，量子芯片的研发也就到了需要实施的阶段，本源电子恰恰是在量子芯片研发方面居于国内领先的企业之一，它已先后建立国内两家工程化量子芯片实验室，代表着我国自主研发量子芯片的落地。
　　这两年美国频频就它掌握的EDA软件对中国芯片企业发难，这让中国认识到研发自主EDA软件的重要性。EDA软件被称为芯片之母，因为它将芯片设计企业和芯片制造企业联结起来，芯片企业用EDA软件开发出复杂的芯片，然后再将数据传输给芯片制造企业，如此芯片才能被生产出来。
　　本源电子作为国内量子芯片的领先企业之一，在刚开始发展量子芯片不久，就开发出自主的量子芯片EDA软件，无疑是未雨绸缪，从根本上建立国产量子芯片的体系，避免日后在量子芯片的设计和生产方面受制于海外。
　　中国在芯片设计方面其实已达到全球先进水平，华为研发的麒麟芯片与美国的苹果和高通开发的芯片处于同一水平；在服务器芯片方面，国产芯片企业申威研发的芯片应用于超级计算机太湖之光，太湖之光的计算性能在全球居于领先地位，被广泛应用于高性能计算（HPC）、人工智能（AI）和大数据融合应用场景。
　　目前阻碍国产芯片的主要是生产制造工艺，国产芯片制造工艺虽然已达到14nm，但是光刻机还较为依赖光刻机巨头ASML，而ASML至今未能向中国交付EUV光刻机，导致中国在开发先进工艺方面面临困难。
　　为此中国开始大力发展28nm等成熟工艺，满足国内近七成的芯片需求，而对于更先进的芯片除了继续依靠现有的设备发展之外，那就是开辟新道路，而量子芯片、芯片材料等方面就是中国发展的新路径。
　　如今本源电子在量子芯片技术方面已取得重大突破，可以说中国在开辟芯片新道路方面已取得进展，另一条道路则是芯片材料，这方面中国也在持续推进。
　　在第三代半导体材料如氮化镓、碳化硅方面都已取得突破，这将有力提升现有的芯片性能；在更关键的第四代芯片材料石墨烯方面，中国也已在快速跟进，目前中国已大量申请石墨烯技术，美国也积极研发石墨烯技术，其中美国初创企业SkyWater就已计划将碳纳米管引入芯片制造行业，如此可以90nm工艺生产出比7nm工艺芯片更要强50倍的芯片。
　　凡此种种都说明中国正积极摆脱对海外芯片技术体系的依赖，一旦量子芯片、碳基芯片技术量产，那么光刻机将不再阻碍中国芯片产业的发展，中国芯片产业甚至可望由此登上世界顶峰，这应该是包括ASML在内的诸多海外芯片产业链企业所不希望看到的结果。