估计只要关注芯片的网友都知道，EUV光刻机是当前阻碍国内芯片工艺进入7nm最关键的设备。
　　因为只要进入7nm，就需要EUV光刻机，全球只有ASML能够制造，但美国却不允许ASML卖EUV光刻机给中国，而国产EUV还遥遥无期，所以国内芯片要进入7nm工芯，也是遥遥无期。
　　所以一直以来，大家都希望国产的EUV光刻机能够生产出来，以此来推动国内芯片制造工艺进入7nm，甚至更高制程。
　　为此，我们经常看到各种突破，众多的专家、组织发表了很多的论文，从很多领域对EUV光刻机，先进的芯片技术进行了研究，也取得了很多的成果，让网友们看到了希望。
　　毕竟论文是基础，在论文的基础之上，再将科研成果落地，变成产品，就行了。
　　但近日，日本半导体专家，也就是全球最大的光刻胶供应商之一JSR的CEO表示，尽管中国想推动自给自足，但缺乏行业基础设施将使中国非常难以开发领先的芯片制造技术，难以掌握EUV光刻机技术。
　　他还表示称，就算中国得到了一篇关于这种化学物质究竟是什么的论文。。。但如何实现纯度、精度和可重复性制造，这都会很难。
　　意思就是将论文变成科研成果，并不是一件容易的事情，并不是有论文就行的。
　　JSR作为全球最牛的光刻胶厂商之一，拿下了全球3040的光刻胶市场，其CEO这样说，虽然有点瞧不起人，但还是有一定道理的。
　　特别是他讲的有论文，也不一定能够实现，确实说得太对了。目前国内在EUV光刻机、先进芯片技术，尖端光刻胶方面确实论文很多，经常有突破，让网友们沸腾不已。
　　但很多时候从论文到现实，确实还差着10万8千里，正如他所言，就算有了一篇关于化学物质的论文，最后如何实现这种化学物质的纯度、精度、可重复制造，都是困难。
　　当然，有困难我们也要迎难而上，推动自给自足是我们必须要完成的目标，只是我们不要太乐观了，这里必定会有很多攻艰战要打，大家需要冷静，坚持，做好长期努力的准备。

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