压力山大！过度封锁不可取，美媒EUV光刻机变得不那么重要了

　　老美本以为封锁打压，就能够遏制中国的芯片半导体发展，然而结果却让它意料未及。华为被四面围堵后，不仅没有倒下，反而越战越勇。
　　就在日前，网上更是传出了华为紫外光刻技术专利，这也导致荷兰ASML股价一路下滑。其实这也证实了，不管是ASML还是老美，都开始承受过度封锁的副作用。
　　中国每年进口芯片和半导体设备就高达数千亿美元，但老美却为了自身利益，一刀切断了全球芯片半导体这条供应链，这意味着整个行业的发展都将会葬送在老美手上。
　　这也是为何这两年ASML一直游走在中美之间，因为ASML也明白了中国市场的重要性。
　　其实谈到ASML，它也开始把路走窄了，以为不向中国市场出售EUV光刻机，就能够拿捏中芯发展。
　　结果呢，ASML首席执行官直接透露：中国在未来35年就能够掌握光刻机技术，当下美国队中国进行封锁打压都是徒劳。
　　ASML虽然是全球唯一一家能够生产出EUV光刻机的厂商，但背后也是离不开美国的核心技术和资本支持。
　　要知道EUV光刻机的生产需要十多万的零部件，而且是由英特尔牵头成立的组织，前后花费了6年的时间才得以研发出来。因为那个时候美国的光刻机企业已经衰落，又不希望日本的尼康进来，所以最后只能让ASML上位。
　　当然了，ASML在老美的技术援助下，取得了重大突破，以至于这背后需要听从老美的指挥。
　　比如签订相关的技术保护条款，比如以后55的光刻机配件都需要从美国购入，比如要听从美国相关的芯片半导体规则
　　有了技术支持后，ASML也是一路顺风顺水，这几年不断扩产研发，从2018年的22台增长到去年的42台。而且还计划在2025年之前实现出货90台EUV光刻机。
　　然而，随着摩尔定律接近天花板，ASML的EUV光刻机红利也开始见底。ASML首席技术官曾透露，EUV光刻机技术即将来到镜头，之后的HighNAEUV技术还行得通，但HyperNA根本实现不了。
　　也就是说，ASML再往下走技术提升不大，但成本却要翻倍。据了解今天一台EUV光刻机需要1。2亿美元，3nm的晶圆成本也去到了2万美元。如果还继续往下走，那成本必然是高的吓人。
　　如此一来，也开始呈现出众多取代ASMLEUV光刻机的新技术。除了华为先前放出的光电芯片、量子芯片以外，还有日本的NIL纳米技术也是备受关注。
　　作为昔日的光刻机巨头佳能，显然是不甘心被ASML一家独大，所以很多年前就开始与铠侠联合研发，推出了代替ASMLEUV光刻机技术的纳米压印技术。
　　据了解在2017年，铠侠就已经启动了纳米压印技术的设备测试运行工作，直到今天已经支持15nm工艺制程，预计在2025年就能推出与ASMLEUV光刻机同台竞争的设备。
　　除此之外，美国的企业也是在不断研发。在2022年的10月份，美国企业就放出了全球最高分辨率的光刻系统，造出了0。768nm的芯片。当然了，这技术还存在缺陷，只能适用于小批量量子芯片生产。
　　最重要的是越来越多的厂商，开始借助先进的芯片封装技术去提高芯片性能。不管是之前台积电的3DFabric联盟，还是美光那DRAM，都是非常好的例子。
　　而且在小芯片生态上，也越老越多的国家开始投入研发，我国也在前段时间正式通过了小芯片技术标准。
　　说白了，越来越多的国家和企业都在绕开ASML的EUV光刻机进行研发创新，因为华为之后，任何人都看清了真相，与其在过度依赖ASML的EUV光刻机，还不如加大力度投入研发。
　　这也是为何外媒开始感慨：EVU光刻机开始变得不那么重要了。毕竟随着老美不断加重对中芯的封锁，而ASML如果还跟在后面不自知，那么中国很快就能摆脱ASML的依赖，到那个时候ASML就只能眼睁睁看着中国从合作伙伴变成竞争对手了！