11台光刻机就位，中国芯仍需至少5年，张忠谋三星才是最大对手

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　　长期以来，国内半导体制造业受到设备与技术的双重垄断，特别是光刻设备，使得我国的芯片制造技术突破步伐缓慢。
　　目前，先进工艺随着国内消费量的不断增加，中国市场在国际半导体链上，占有举足轻重的地位。
　　所以，今年第一季度，垄断光刻设备的荷兰阿斯麦公司向国内芯片供应商交付了11台光刻机，这意味着国内具备了打破垄断的条件。
　　一是国内企业可以大幅提高产能，缓解缺芯问题；二是国内先进芯片的自主研发也逐渐提上日程。
　　因此，目前国内半导体产业的发展还处在哪个阶段？事实上，随着阿斯麦光刻机的问世，国内芯片行业将迎来持续快速发展的时期。
　　中微半导体 CEO尹志尧曾表示，国产芯片水平与国际先进工艺尚有差距，大概在三代工艺左右，追平国际工艺预计需5~10年。
　　就拿目前国内发展势头较好的中芯国际来说，14纳米工艺的良品率已经直接逼向芯片代工巨头台积电，更先进的加工工艺也在逐步推进，这已经是大陆芯片制造的最高水平了。
　　与国际先进水平相比，目前已发展到5纳米，甚至台积电和三星也已在3纳米领域展开竞争，可见差距依然十分明显。
　　如今，11台荷兰阿斯麦光刻机的到来，无疑给了中芯国际这样的龙头企业发展动力，其先进制程的研发速度也将大大提升。
　　毕竟中芯早已占据了28纳米等成熟工艺，再加上如今阿斯麦光刻机已经就位，在此基础上继续扩大产能，而向尖端工艺突飞猛进简直是易如反掌。
　　可想而知，今后国内芯片厂商的市场份额将进一步扩大，国内芯片制造工艺的水平也将大大提高。
　　另外，这11台光刻机的投入使用，不仅推动了国产芯片加工工艺的发展，也将使光刻胶等重要材料国产化的进程得以实现。
　　举例来说，晶瑞股份就是一家国内光刻胶巨头，它也购买了阿斯麦光刻机，未来用于生产国内自主研发的顶级光刻胶。
　　可以说，一石激起千层浪，此次国内对阿斯麦光刻机的引进，将使我国半导体产业的发展发生翻天覆地的变化。
　　当前，国内半导体行业之间的协同作战能力日益增强，如芯片设计软件、蚀刻机、光刻胶等核心部件的制造。
　　这样就可以逐步实现自主研发的国产产品取代进口产品的目标。在此大趋势下，国产芯片有望走向前沿，国际垄断有望被打破。
　　时至今日，国内半导体产业已经取得了不少成就，但身为全球晶圆代工龙头的台积电，却不仅对这些成就视若无睹，甚至连国内厂商都没有被放在眼里。
　　创立者张忠谋不久前宣布，大陆半导体发展落后台积电5年以上，面对中芯国际等企业的发展，台积电根本不需要引起重视，相反，韩国三星才是台积电的最大对手。
　　为什么张忠谋对三星颇有期待？结果证明三星是世界上唯一一个能在工艺水平上赶上台积电的公司。
　　三星在台积电将生产工艺提升到5纳米的时候也做到了，虽然量产时间没有台积电早，但三星的确赶上了台积电。
　　而现在，三星计划在2030年前完成其在其工厂生产线上的1150亿美元投资，从而达到超越台积电的目标。
　　去年五月，台积电宣布将携120亿美元的资金赴美建厂，而三星则在今年三月又宣布将在美国投资170万建造芯片厂。
　　此外，除了积极扩大工厂产能外，三星还计划在3纳米工艺方面增加新技术，以实现弯道超车台积电。
　　看得出，三星就像一块狗皮膏药死死地粘在了台积电身上，无论什么工艺都要和台积电比肩。
　　正因如此，才促使台积电不断取得技术领先者所取得的一系列突破。但是，面对台积电和三星两大巨头的激烈竞争，我国芯片制造企业的未来在何方？
　　大家都知道，由于我国的半导体产业起步较晚，又长期受垄断封锁，因此落后于国际水平也是无可奈何的。
　　今天中芯国际在国内众多企业中脱颖而出，凭借自己的技术实现了由28纳米到10纳米的转变，还解决了良品率低的问题。
　　若梁孟松透露的情况属实，则更先进的制程工艺更是无从谈起，一旦成功就意味着国内芯片水平再上一个台阶。
　　作者认为，未来中芯国际等国内芯片企业一定能不断创新，实现芯片制造水平的提升，进而打造出完全自主的中国芯，同时也让台积电和三星等巨头感受到来自国内的威胁。
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