传中国已经设计好35nm光刻机，那么它何时能制作出来呢？

　　怎么又冒出个35nm的光刻机？没听说过！估计是哪位记性不好的大喷子记错了数据，28nm给你喷成35nm了。真是瞎喷呀！
　　关于国产光刻机，原来能国产的是90nm的，上海微电子公司可以生产。至于更高制程的光刻机有两个消息：
　　一丶2019年4月从网上了解到，武汉国家光电研究中心甘棕松团队成功研制出9nm工艺光刻机，此次研发成功的光刻机与西方国家有所不同，是用两束激光在自研光刻机上突破了光束衍射极限的限制，刻出了最小9nm线宽的线段。但是，直到现在一直没有进一步的消息。可能是遇到了难以突破的困难，估计‘黄＇了。
　　二丶上海微电子己设计出28nm光刻机，并且说2020年底前有望出货，结果2020年底没有实现出货，今年又说年底前可以出货，估计这回应该差不多吧，必竟上海微电子有造光刻机的基础。近日据日经亚洲一篇关于中国芯片产业链实力调查的文章透露，上海微电子光刻机有了最新进展，不但28纳米光刻机要来了，甚至14nm光刻机也己经突破，情况确实令人振奋。
　　另据上海微电子一位工程师表示，28nm和14nm光刻机己经造出来了，只是成品率还没有达到预期，还在完善和提升中。
　　希望千呼万唤，万众期盼的国产28nm和14n的光刻机早日下线并投入芯片生产吧！
　　错，中国不是已经设计好35nm光刻机，而是上海微电子公司已经制造出28nm光刻机，今年年内将投入使用。28nm光刻机比35nm的更尖端，制造难度更高。
　　不是35nm，现在中国其实已经有光刻机的技术了，目前说的这个是处于设计完成阶段了，在世界上面现在主要有德国SUSS、美国MYCRO NXQ4006、以及中国品牌。并不是很多人想象的那样，光刻机的发展是一个过程的，中国不是没有，是没有那么高精度的，要想拥有属于自己的光刻机并不是一件容易的事情，要知道全球能够生产高端光刻机的，被荷兰的ASML所垄断，所以我们想要拥有自己的高精度光刻机，这个还是有很多的难题需要攻克的，目前国内实力最强的光刻机厂商是上海微电子，而在去年6月份，上海微电子披露了一则消息，将会在今年或者明年期间，正式对外交付一台28nm制程工艺浸润式光刻机设备，这也意味着我国的光刻机设备将会从90nm工艺时代迈入到28nm工艺时代，接下来将会是14nm，然后进行国际最高水平的冲刺，所以他的设计是一个阶段，他的制作交付又是另外一个阶段，但是我们能够看到的是我们的技术水平正在不断的提高，我们也是在不断的进行突破，这个过程肯定是非常艰难的，但是我们的科技公司正在夜以继日的进行着研发制作，所以就像比尔盖茨说的那样，对于中国的技术封锁其实对于美国等一些国家来说，并不是意味着是一件好事，这是在逼着我们自己加速研发更加先进的光刻机技术，所以想要不被别人限制住，不被别人难倒，还是要靠我们自己的智慧和努力，相信我们是可以做到的，为中国加油吧！
　　设计好不等于能制造，ASML对中国技术人员说过即使给你们全套图纸也制造不出高端光刻机，这不是说大话，就目前国内的技术实力，确实差距太大，尤其在光学领域，我们连手机照相机、单反相机镜片还不能自己生产
　　唉，落后的有点多啊，asml都已经在研发3nm光刻机了。