打破现阶段摩尔定律极限，全球首颗2nm芯片诞生

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　　今天跟大家聊一聊：打破现阶段摩尔定律极限，全球首颗2nm芯片诞生！
　　随着芯片的制程工艺进入5nm时代，摩尔定律的极限时刻被提及，我们也能很明显地感受得到，现阶段芯片厂商对于全新制程工艺的研发，已经陷入了一定的困境当中，技术突破的时间也被进一步拉大，这一度让我们相信，芯片的研发或许真的已经达到了摩尔定律极限。
　　就在很多芯片厂商处于困惑之中时，就在近日IBM宣布已经成功研制了2nm的芯片，也成功打破了现阶段的摩尔定律极限，芯片的技术迭代肯定会有上限，但至少不会是现在，芯片的技术研发还有着很大的进步空间。
　　IBM创造了现阶段的奇迹
　　很多人可能会好奇，作为计算机企业的IBM，在很早之前就已经出售了芯片研发部门，为何如今还会具备这样的实力呢？其实真正的原因在于合作上，IBM选对了合作伙伴，三星以及AMD都是其合作伙伴。
　　虽然早早宣布退出芯片市场，但IBM对于芯片技术的研发却从未中断，多年下来拥有了良好的基础实力，配合上AMD以及三星先进的技术，在一众优秀企业的通力配合之下，终究完成了对于2nm芯片研发的壮举。
　　唯有联合各个企业的优势，才能够诞生更为尖端的技术，IBM 2nm芯片的诞生，也证实了相关限制多么的＂可笑＂，限制了各个企业之间的合作，就相当于限制了人类自身的发展，优秀的芯片企业聚在一起，才能够实现更大的成就。制造2nm芯片难在哪里
　　所谓的芯片制程工艺，指代的就是芯片内部的电路直径，在5nm制程工艺中，就需要在指甲盖大小的面积中，集成百亿颗的晶体管，而往后每提升1nm的工艺，晶体管的数量可是成倍增长的，本来下一代的制程工艺为3nm，但迫于技术的复杂性，台积电以及三星只能暂时先发布4nm的制程工艺。
　　而要想实现2nm的芯片制造，仅仅依靠目前已有的光刻机，是根本没有办法实现制造生产的，要想强制实现制造的话，就需要通过5nm的光刻机进行多重曝光，从而实现对于精度的提升，不过这无疑会增加大量的成本，其技术难题也是难以想象的。
　　虽然技术复杂难解，但IBM还是借助各个企业的力量，成功研制出了一颗2nm的芯片，这无疑是举世瞩目的成就，但遗憾的是，在短期之内这款芯片只能作为展示品，凭借着当前的技术，在短期之内是不可能实现量产的，什么时候能够实现商用也是一个未知数。
　　但2nm芯片的成功研制，也能够给足芯片厂商更大的信心，至少已经有人打破了所谓的摩尔定律极限，证实了对于芯片的研发，还有着很大的进步空间，2nm芯片无论是功耗还是性能，都将得到进一步的提升，这样的诱惑也将成为芯片厂商努力的理由。2nm芯片拥有着什么样的性能表现
　　首先最大的改变就是，在相同的体积之下，2nm芯片的晶体管数量，总计达到了500亿个，足足比5nm的芯片增加了两倍不止，线路的精密度更高了，在性能表现的提升上也尤为明显，据悉至少要比7nm的芯片提升了45%的性能，而且运用范围比较广泛，可以同时适配手机、航天航空等等领域。
　　而IBM这一次也研发了新技术，名为＂底部电介质隔离方案＂，可以有效的降低内部电路的电流泄漏，可以很好的降低功耗的发热问题，特别是芯片发热问题，在5nm工艺上尤为明显，虽然在性能上提升了，但并没有带来更好的用户体验，这项新技术的诞生可以不借助外力，解决这一个令手机厂商头疼的问题。
　　未来这项技术能够得到推广的话，可以有效的帮助到更多的企业，也会让更多的芯片厂商产生技术研发的兴趣，从IBM身上，我们看到了芯片领域还有足够的空间，但显然研发的进度将会被进一步拉长，但对于中国半导体而言，却是一个非常好的消息。
　　新技术研发的周期被拉长，意味着我们有足够的时间去实现技术的赶超，看似2nm芯片的发布给我们造成了更大的困境，但是也能够有效的激发国内企业的信心，因为IBM并不是专门研发芯片的企业，它都能取得这样的成绩，我们如果用尽全力的话，实现技术突破又有什么难度呢，落后不是颓废的理由，对此你们是怎么看的呢？