台积电28nm芯片南京扩产，ASML加速卖中国DUV光刻机，是精准阻击

　　近期台积电宣布要投资28亿美元，扩产在南京的28nm芯片工厂产能，计划在2022年开始投入生产。就在近日，ASML宣布2021年一季度已交付中国大陆11台光刻机（DUV）。这立即让我们想到就在二个多月前的2月份，ASML与中芯国际宣布的12亿美元光刻机订单。
　　这几则消息，咋一听都是大好事啊，外企大笔投资过来，卖给你亟需的光刻机设备，难道我们中国的芯片制造领域一下子幸福了，是大发展机会来了，还是美国对我们好了？
　　要知道近几年美国对中国的芯片（半导体）产业，那可是几乎采取了各种打压、阻击手段，意图遏制中国芯片（半导体）产业的发展。而且台积电、ASML都是几乎完全受美国控制的先进企业，它们这么做，难道标志着美国对中国好了？其实还真的不是这回事。
　　对此，下面咱们就来做个简单的分析，看看到底是怎么回事。
　　一、台积电要扩建的是28nm制程工艺产线，大陆已不缺这个技术。
　　而在技术上，28nm技术中国大陆自身现在已完全掌握，甚至14nm技术中芯国际也已完全攻克。只不过大陆芯片企业暂时在设备、关联技术及软件、材料等方面还对美国有一些依赖。但是短期内要实现去美化，咱们并不存在不可攻克的难关。14nm制程工艺技术已没问题，28nm制程工艺更不用说。
　　所以，第一个结论很简单，我们已经有28nm、14nm制程工艺的芯片生产技术，甚至中芯国际的7nm制程工艺技术也已在研发中。台积电在南京扩建28nm芯片生产线，对于提高中国大陆芯片制造技术，实在是没有多大价值。
　　二、台积电南京工厂芯片生产线扩产，可以补充中国大陆芯片产能不足、所以有益的说法，成立吗？否。
　　对此最有力的佐证，就是4月初的一则消息，在台湾半导体产业协会（TSIA）年会上，台积电董事长刘德音说，成熟的制程如28nm看似供不应求，实际上全球产能供大于求。
　　这个说法，简直是与台积电在南京扩产28nm产线的行动，是百分百的冲突，WHY？为什么会出现这么彻头彻尾的言行不一的矛盾？台积电董事长这么个人物，够权威、不会是口误吧。
　　显而易见，对此只有一个解释，那就是你们（别家）就不要扩产28nm芯片产能了，但是，我（台积电）还是要继续扩产的。
　　实际上中国大陆芯片产能的急速扩展和技术提升，主要就在最近三、五年这个区间。而台积电南京工厂的扩产时机恰恰就在中国大陆产能爬坡的关键时刻。即便是咱们不去猜测台积电是不是居心叵测，但是台积电扩产的这个精准时间点，遏制大陆芯片产业扩产的客观影响是存在的，这就够了。
　　三、台积电的确是在高度配合美国打压中国芯片产业发展，这还存疑吗？
　　我相信谁都知道，这完全不用怀疑。咱们根本不需去猜测其动机，看台积电二个行动就可以。决绝断供华为芯片+听从号召去美国建造先进的5nm制程工艺芯片工厂 ，够了吗？
　　千万别解释说台积电也是因为摆脱不了美国的控制，而无可奈何、不得不而为之。不管是主动的还是被动的，台积电就是美国遏制中国芯片产业发展的有力工具，就这么简单。
　　四、ASML突然加快向中国出口DUV光刻机，就是瞄着中国国产28nm光刻机即将攻克的时间节点，精准的阻击。
　　光刻机，是芯片制造不可或缺的最关键设备之一，确实关系到半导体产业的提升。
　　目前大陆的芯片厂大部分光刻机也都是进口的，近几年甚至连世界各地的二手光刻机都因被中国芯片厂抢购而翻番地涨价，可见国内芯片厂的扩产势头。
　　一旦国产28nm光刻机攻克，则芯片制造国产化将几乎可以满足90%以上的制造需求。上海微电子的28nm光刻机还在紧锣密鼓研制中，预计2021年左右就将推出。要注意的是28nm制程工艺芯片生产线不是必须使用28nm光刻机，28nm光刻机是可以生产14nm甚至更先进制程工艺芯片的。
　　就在国产28nm光刻机即将攻克之际，ASML向中国交付DUV光刻机，提速了。
　　其实ASML对中国光刻机的销售，是完全由美国的政策主导。多年来从不销售先进光刻机给中国企业，恰恰就在上海微电子28nm即将研制成功之际，一下子签下中芯国际12亿美元各型光刻机的订单。并且，交付速度是这么快，这个效率之前可没有啊。
　　趁着中国国产光刻机成功之前，大量铺货过来，既赚足了钱，还占领市场，让这个技术档次的国产光刻机举步维艰，会不会就是ASML的动机？ 这和台积电扩建南京生产线产能就是一回事，就是个精准阻击。
　　当然，无论是台积电还是ASML，中国暂时还没有的先进技术/设备，那是绝对不可以给到中国的。所以台积电的7nm、5nm、3nm芯片生产线，或是ASML的EUV光刻机，都别指望了，还是扎扎实实自己搞吧。