EUV光刻机被抛弃了? 当大多数人看到这个题目的时候,一定会觉得这是一个天大的玩笑。因为EUV光刻机是目前全球最先进、最精密的半导体设备,也是生产制造7nm及以下制程必不可少的设备,所以EUV光刻机生产落地那一刻就受到了各大芯片厂商的争相订购,像台积电、三星和英特尔等这些半导体头部企业也不例外。 但由于芯片规则一次又一次被修改,ASML不仅没有出货自由,甚至连外企在中国的分厂也不能购买EUV光刻机,这让韩企海力士难以接受,其大多数工厂都建在内地。 另外,早在2018年,我国芯片代工厂商中芯国际,也从ASML手中订购了一台当时最先进的EUV光刻机,由于众所周知的原因,至今也没有到货。尽管ASML总裁曾表示,不能出货给中国是因为受到了《瓦森纳协定》的约束,但也改变不了什么。毕竟,ASML生产线上还包含了美技术和零部件,老美不点头,就不能实现自由出货。 再加上,最近一大批欧美科技巨头的举动,把"科技无国界"的伪面具一次又一次地扯了下来,让很多国家和地区的人认清了现实,只有摆脱对EUV光刻机的依赖,另辟蹊径,才能不受制于人。于是,各大芯片厂商开始寻找可以替代EUV光刻机的新方案。 当然,ASML最不愿意看到的事情就是,EUV光刻机被抛弃,被替代,因为一旦有企业绕过EUV光刻机制造出高端芯片,那么ASML的EUV光刻机就将成为历史,自己的营收也会一落千丈,甚至还有可能被淘汰出局。 首先,自华为事件后,我国各科研机构和企业就开始重视对光刻机等高端设备的研发,像中科院在EUV光刻机光源、双工件台等方面接连突破;上海微电子2.5D/3D先进封装光刻机也已经完成交付;国望光学也在光刻机曝光系统方面迈出了重要的一步;还有中微半导体自研的5nm高端刻蚀机;还有华为也已经全面进入芯片半导体领域内。 简单点来说,国内半导体产业集合了所有的资源和人才力量,势必要攻克光刻机的技术问题,打破海外企业在光刻机领域的封锁。 其次,ASML的竞争对手佳能也没有闲着。先是联合铠侠等厂商推出了NIL工艺,后又研发出新产品3D半导体光刻机。 据悉,佳能等推出的NIL工艺,可以绕过EUV光刻机,就能生产出5nm等制程的芯片。还有正在研发的3D半导体光刻机,也将于2023年的上半年面市。 除此之外,苹果、英特尔、华为、AMD等也在研发先进的芯片封装工艺,尤其是华为和苹果,前者明确表示,可以采用多核架构,用堆积、面积换性能的方式,用不那么先进的工艺也可以让华为的产品具有竞争力;苹果则已经成功推出了M1Ultra芯片。 最后就是,俄罗斯也在日前宣布,将首期投资6.7亿卢布研发X射线光刻机,有可能比ASML的EUV光刻机还要先进。 总而言之,只要ASML做不到自由出货EUV光刻机,那么其他国家和地区的芯片厂商就有可能找到替代EUV光刻机的方法。也正是因为如此,外媒才说EUV光刻机正在被抛弃! 对此,你们怎么看?欢迎大家留言点赞分享。