最高3。5万片月,台积电3nm工艺将于8月量产
据台湾《联合报》报道:台积电决定如期在2022年推动3nm芯片量产,量产地点位于台南和新竹两地。目前台积电初步规划新竹工厂每月产能约1万至2万片,台南工厂产能为1.5万片。
据悉,台积电3nm会有多个版本,至少包括N3、N3E、N3B。历经多次波折,台积电已经改变策略率先在8月量产第二版的N3B工艺,而2023年或将增强版的N3E工艺量产。
N3E工艺将使用更少的EUV光刻层,从25层缩减到21层,投产难度更低,良率也能更高,成本自然得以下降,但是晶体管密度会比N3版本低大约8%,相比N5仍然会高60%。
竞争对手方面,三星在4nm工艺上受挫或丢失高通骁龙8系列之后的订单。在3nm工艺方面,目前消息还停留在年初,三星代工市场战略团队负责人Moonsoo Kang对外表示:2022上半年三星第一代的3nm GAA (3GAAE)制程技术将量产,最迟不会超过二季度,而下半年将开始商业化生产。
据悉,GAA晶体管能够提供比FinFET 技术更好的静电特性,能够让芯片进一步微缩,也就是晶体管密度更大,另外还能降低栅极电压,让功耗降低。而台积电的3nm工艺将继续采用FinFET 技术。
按照三星的说法,3nm GAA芯片,较上一代5nm FinFET技术,面积能够缩小35%,性能提高30%,或功耗提高50%。
无论怎样,纸面数据没有说服力,还是让采用3nm工艺产品的测试成绩来评判台积电/三星的优劣吧。
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