这次让美国失望了！国产光刻机刚宣布研发成功，ASML开始低价

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　　今天跟大家聊一聊：国产光刻机刚宣布研发成功，ASML就开始低价抛售，这次让美国失望了。
　　一提到困扰国产芯片的最大难题，国人首先想到的就是光刻机了，目前在芯片制造领域不断有新的技术被突破，但唯一让国内企业无能为力的就是对于光刻机的制造了，荷兰的ASML垄断了全球的市场，不仅以高价出售，而且是有钱都不一定能够买到的。
　　而荷兰ASML技术负责人更是直接表态：就算把全套图纸给我们，我们也造不出一模一样的光刻机。经过仔细分析之后还的确是这样的现状，光刻机的制造集结了全球最为顶尖的科技，而大部分采用的都是美国的技术，这也是光刻机的自由出货受制于美国的原因。
　　目前最为先进的EUV光刻机，在生产过程中需要用到十几万个零部件，供应商就多达五千多家，而且每个零部件都要经过成千上万次的调试，就算是ASML也需要进口超过90以上的零部件和先进技术。中企完成对于光刻机技术的突破
　　在以前我们也觉得以我们目前的工业实力，不可能完成这样的壮举，直到相关限制的到来，一切都发生了微妙的变化。
　　在相关限制之下，面对美国的百般刁难，国内的企业也彻底觉醒了，从而激发了自主创新的斗志，在两年的时间里国内的芯片企业取得了非常不错的成绩，在制造芯片最重要的三大仪器光刻机、刻蚀机、离子注入机上，都已经取得了相应的技术突破。
　　目前上海微电子已经正式官宣，已经掌握了对28纳米光刻机的制造工艺，令人没想到的是国产光刻机刚宣布研发成功，ASML就宣布恢复对于中国光刻机的供应，并且还有意降低28纳米光刻机的价格，这显然是得到了某些人的授意，目的就是想提前占据中国市场，并试图打压国产光刻机的发展。这次让美国失望了
　　费尽周折想要限制中国半导体行业的发展，本以为控制了光刻机就能够万事无忧了，没想到即使在ASML宣布恢复光刻机供应之后，国内企业依然支持上海微电子的发展，并且表态愿意采购国产光刻机，显然这一次让美国失望了，想方设法限制发展，没想到最终却起到了反作用。
　　虽然目前ASML已经制造出了更为先进的EUV光刻机，但其实际用途并没有28nm的DUV光刻机来的广泛，利用28nm的DUV光刻机能够完美的生产出14nm以上的芯片，这部分的需求已经能够满足全球90的需求了，因此只要上海微电子能够制造出28纳米的国产光刻机，对于中国来说是具备重大意义的。ASML沉不住气了
　　ASML负责人之前多次表态：愿意供应光刻机给中国，就算是尖端EUV光刻机也不例外。但显然对于光刻机的自由出货，是不受他们自己控制的，想要出口必须获得美国的相关授权。
　　一旦上海微电子完成光刻机的国产化，他们的市场份额将会被划分，而中国市场对于光刻机的需求量又是最大的，显然ASML这一次也急了，在中芯国际恢复成熟工艺的授权之后，他们随即送上了一份12亿美元的光刻机合同，据悉在价格上还有着很大的优势。
　　ASML不断压低价格，对于国产光刻机的发展并不是好事，他们的目的只有一个，那就是压垮国内光刻机产业的发展，从而巩固自身的垄断地位，在经历了华为的事件之后，国内的企业逐渐摒弃了商人思维，不再被他们的陷阱所诱惑。
　　因为国内企业明白一旦错过了这一次的最佳时机，让欧美的企业重新建立起了垄断优势，那到时候我们将付出更为惨痛的代价，有钱都买不到的案例将重新上演，并非他们心软了，而是想彻底击垮我们的最后防线。国产芯片即将崛起
　　在意识到半导体行业发展的重要性之后，各大科技企业纷纷开启了对于半导体领域技术的研发，相关限制并没有压倒华为，反而让中国的企业彻底醒悟了，在相关限制的连锁反应之下，损失最大的并非中国企业，反而是美国的芯片企业，之后美国的科技企业需要向华为缴纳巨额的5g专利费，这都是他们咎由自取。
　　目前全球半导体格局已经发生了变化，美国此前绝对的领先优势也因此被打破，各个国家都在想着建立去美化的生产线，而对于国内来说更是大动作不断，在集成电路学科被纳入一级学科之后，各大高校纷纷开设相关专业培养人才，而中科院也进入到了光刻机的研发行列，国产芯片未来可期！