北大名誉院长传来好消息！ASML不卖光刻机给我们三年实现国产替代

　　【5月30日讯】相信大家都知道，＂缺芯少魂＂一直是国内科技行业的最大技术短板，在芯片、操作系统这两大最为核心技术领域，我国绝大部分科技企业都严重依赖于＂进口＂，尤其是在中兴、华为事件发生以后，更是让国内不少网友们开始担忧，在＂实体清单＂制裁之下，国内科技产业将如何实现＂突破＂呢？
　　终于在2021年5月27日，北京正式举办了＂2021年中国企业未来发展论坛＂，在这个《2021年中国企业未来发展论坛》上，北京大学国家发展研究院名誉院长林毅夫教授一番表态，也让广大网友们非常激动，林毅夫教授表示：＂ASML首席执行官曾表示，如果不把光刻机卖给中国，大概3年以后中国就会自己掌握这个技术，并且一旦中国掌握这个技术，中国的生产成本将会比国际上更便宜，届时全球光刻机巨头ASML就到了全面退出光刻机市场时刻了。＂
　　而我们都知道，光刻机一直都是生产制造设备最为核心的设备，尤其是在生产7nm及以下工艺芯片产品时，更是离不开荷兰ASML公司所生产的EUV光刻机，因为荷兰ASML公司是目前全球最牛的光刻机企业，全球唯一能够量产高端EUV光刻机设备，但荷兰ASML公司却对中国企业禁售高端EUV光刻机，让中国芯片制造企业无法生产主7nm以下工艺的芯片产品。所以北大名誉教授林毅夫一番言论，也是让广大网友们激动不已，甚至还有不少网友们期待，我们的国产EUV光刻机能够早日研发出来；
　　那么三年以后，我们真的能够造出属于我们的国产高端光刻机吗？
　　根据目前国内多家科技媒体爆料，国内实力最强光刻机巨头—上海微电子，已经研发出了28nm工艺浸润式光刻机，并且在经过多重曝光后，可以实现7nm工艺芯片量产，虽然这一消息还没有得到最终确认，但从上海微电子官方所透露消息来看，确实也是在研发高端国产光刻机设备，但对于国产高端光刻机研发， 国内还是有不少网友当它是个笑话，并不看好国产光刻机的未来发展前景。毕竟高端光刻机全面量产需要解决三大难题，分别是EUV光线的生产、EUV光线的收集以及光刻技术本身。
　　哪怕是全球实力最强的光刻机巨头—荷兰ASML公司，也都是整合了Cymer公司以及德国TRUMPF公技术，才生产出了极紫外光线，其中Cymer公司是荷兰ASML公司，而德国Ditzingen的TRUMPF公司又是ASML公司独家供应商，因为每年ASML公司都会给TRUMPF公司投钱搞研发，所以在技术供应方面都是专属的独家协议，其他光刻机厂商也无法获得这些高端EUV极紫外光线技术授权。
　　在EUV光线收集上，蔡司半导体（Zeiss SMT）所提供的Distributed Bragg Reflector（分布式布拉格反射器），也是独家供应荷兰ASML公司，可以说荷兰ASML公司为了能够垄断光刻机市场，更是牢牢将TRUMPF、蔡司这两家公司捆绑在自己身上。
　　所以我们的国产高端光刻机技术想要获得重大技术突破，确实还需要解决很多技术短板，所以在三年内实现国产光刻机替代，确实也是存在更高的技术难度，但即便再难，我们也要做好打长期战的准备，不断地提高国产科技水平，这才能让我们的国产科技企业避免被＂卡脖子＂尴尬局面。
　　最后：针对北大名誉院长林毅夫教授一番表态，各位小伙伴们，你们对此都有什么样的看法和意见呢？欢迎在评论区中留言讨论，期待你们的精彩评论！