光刻机发展史！日本曾经吊打美国，却输给了一个中国人

　　光刻机有着＂人类最精密复杂的机器＂之称，是现代顶尖技术的集结体。在该领域，荷兰ASML作为唯一能生产出，业界顶尖的EUV光刻机的厂商，毫无疑问地成为光刻机行业霸主。
　　光刻机的工作原理
　　光刻机如何工作？简单来说，就是光刻机通过光源曝光，将设计完成的集成电路图，复印到硅片之上，从而形成图像。
　　光源自然是光刻机的关键之一，光源的波长对光刻机的工艺能力起到了决定性的作用。
　　日本强大的光学和半导体技术
　　日本是光学技术老牌强国，诞生了索尼、尼康、佳能等光学巨头，至今日本光学技术仍然领先世界。
　　在半导体领域，日本也有这数十年的辉煌，拥有很高的话语权。
　　日本已经成为全球最大的半导体材料输出国，在光刻胶、硅晶圆等14种重要材料上，占据了全球超50%的份额。
　　同时，日本的半导体生产设备也令人瞩目。在国际半导体设备公司排行榜前15名中，来自日本的企业便占据了8席。
　　拥有如此强大光学、半导体技术的日本，也曾在光刻机领域风光无二。在上世纪80、90年代，日本光刻机对美国竞争对手呈现出碾压的态势。日本尼康更是占据全球光刻机领域50%以上的市场。
　　然而，如今为何偏偏是荷兰造出了全球顶尖的光刻机？尼康呢？尼康的没落与ASML的崛起
　　1984年ASML成立，当时尼康正春风得意，恐怕不曾想到，当时这个籍籍无名又穷困潦倒的ASML，有一天能够反超自己。但这样的事情，还是切切实实的发生了。
　　转折点：＂浸润式＂与＂干式＂投影技术路线之争
　　90年代，光刻机光源波长停滞在193nm，难以继续前进。为解决这一问题，当时半导体领域产生了两种思路：
　　一是，在干式光刻方案的基础上，攻克152nm的F2激光。这条路更稳健，尼康便是推崇者。
　　二是，EUV LLC联盟希望通过极紫外技术，实现突破。该设想十分激进，技术难度颇高，但一旦成功就能实现10nm以下芯片的制造。
　　不过，ASML却大胆地尝试了一种完全不同的技术，那便是台积电工程师林本坚提出的＂浸润式光刻＂方案。
　　2004年，ASML与台积电共同研发的浸润式微影机问世，赢得了世界的瞩目。虽然尼康也很快推出采用＂干式光刻＂方案的157nm产品。但是，无论是在应用成本、缩短光波效果上，都是ASML的产品更胜一筹。
　　这成为尼康与ASML身份转换的转折点。
　　尼康被排出＂EUV群＂，无翻身之力
　　由英特尔与美国能源部牵头的EUV LLC联盟，集结AMD、摩托罗拉等美国顶尖科技巨头，同时还有三大国家实验室的助力，可谓技术实力强悍、人才云集。
　　而它们之所以聚集于此，为得只有一件事：研究极紫外光刻机。
　　不过当时EUV LCC联盟遇到了一个关键的问题：美国光刻机企业在尼康的打击下，早已不成气候，该扶持谁来做这个光刻机领域的霸主？
　　当时，美国政府并不想让极紫外这项半导体核心技术落入他人之手。
　　不过，为加入EUV LLC联盟，ASML许下了众多承诺，如在美建厂、建立研发中心等。最终，EUV LLC联盟还是接纳了ASML。
　　而尼康则被排除在外。在当时提交给国会的一份报告中，有这样一句话：尼康可能会将技术转移回日本，从而彻底消灭美国的光刻机产业。美国自然不会让这样的事情发生。
　　由此，在美国的扶持之下ASML快速崛起，成为唯一能制造EUV光刻机的厂商，尼康则被ASML的光芒所掩盖。
　　如今，尼康更是因核心相机业务下滑，而计划裁员2000人，境况不佳。
　　写在最后
　　ASML如今的地位，依赖于整个西方最先进工业体系，ASML虽为荷兰企业，却是由美国造就，如今也不得不听命于美国。
　　而尼康，则因会对美国造成威胁，被排除在外。