三星称3nmGAA技术已领先,可能会超过台积电?
近来,三星电子做了一个决策,决定要在超越台积电之前,把他们的新一代3nm GAA制程科技商业化。
三星的工作人员在近期举办的三星科技暨事业论坛会议上称,他们的GAA制程开拓进度目前已超越了台积电。
而台积电是他们的主要竞争对手,若技术能稳定下来,那么,三星的晶圆代工在领域上将会迈进很大一步。
三星在前年有了3nm GAA,也就是它的制程技术的PDK,而且在去年还通过了制程技术的认证。这个套件能让高性能计算、5G技术、AI等等方面运用在芯片生产。
熟悉这些人都知道,GAA是3nm十分之重要的环节,近期可能还会获得全球知名的晶圆代工商采用,它主要是把晶体管架构从3D换为4D,换句话说,也就是把FinFET换成GAA。
三星在2019年的时候,在测试了3nm GAA技术后觉得能把芯片面积减少45%,效能方面可以上升50%。
今年6月,3nmGAA流片已完成。
商场里的三星SAMSUNG手机专卖店
和5nm制程对照,3nm GAA的面积效率上升了35%左右,功能的损耗下降了50%,性能上升了大概30%。
负责人在近期表示,"三星虽然在2017年才组建了晶圆代工事业部,但依附企业在存储制作上面,替代台积电的日子为期不远,因为三星曾超越了台积电开拓出一款运用FinFET科技的14MHz产品。
不过就目前的资料来看,在2011-2020的时候,全世界有31.4%的GAA专利是台积电的,三星只占了20.6%。
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