正式确认，关于国产光刻机，ASML没料到会这么快

　　光刻机作为芯片制造产线上最重要核心设备之一，被誉为是工业皇冠上的明珠，不仅是因为该设备昂贵、精密，更是由于它的特殊性：全球能生产中高端光刻设备的只有荷兰ASML，但其产线上却糅合了美国光源、德国光学镜头、瑞士数控机床等数十个国家的尖端技术，最关键的一点是产能不高，市场供不应求。
　　再加上美出口管制规则的约束，国内市场很难从ASML手里进口到高精尖光刻设备，然而，芯片国产化替代又刻不容缓，因此，留给我们的选择只剩一个，那就是自己动手，实现光刻国产化。
　　没想到的是，ASML却泼来冷水，表示即便是给中国图纸，他们也造不出来。就连台积电张忠谋也公开反对我们实现自给自足，认为凭我们一己之力很难打破设备垄断，更无法建立完善的半导体产业链。
　　但正如BYD创始人王传福所说，再尖端的设备也是人造的，而非神造的。中科院等科技机构以及上海微电子等科技企业丝毫没有因为外界的不看好，而放缓对国产光刻机的研发脚步。
　　功夫不负有心，在这两年时间里，国内光刻市场不断传出着破冰的好消息，比如中科院的首台高能同步辐射光源，中科科美研发的直线式劳埃透镜与纳米聚焦装置等等，都预示着国产高精尖光刻设备的落地已经不远了。
　　果然，在10月24日，国内光刻市场再次传来重磅消息。
　　据媒体报道，上海微电子在新产品发布会上，正式确认了推出的新一代视场高分辨率先进封装光刻机！
　　知情人士透露，上海微电子自研的该光刻设备，技术专利方面完全自主可控，且已与国内多家客户达成销售协议，首台将于年内交付。
　　该新一代高分辨率光刻设备主要应用于芯片下游产业链的封测领域，将在很大程度上提升国产封测水平并推动封测产业的发展。
　　或许很多人会觉得该设备无法应用于芯片制造前道工序而略感失望，但是要知道，封测领域同样十分重要，而且是我国芯片产业的一大短板，这足以看出上海微电子此次突破的重大意义。
　　而且，我们已经突破了高分辨率封测光刻领域的垄断，那么用于芯片制造前道工序的光刻设备的突破还会远吗？
　　国产高分辨率封测光刻设备的落地虽然暂时无法动摇ASML的市场地位，但却足以让其惊出一身＂冷汗＂。
　　我国是全球最大的半导体消费市场，ASML为了不被排除在我国市场之外，在近段时间多次表示将提高产能，预计在三年之内累计生产160台EUV设备，由于ASML新型光刻机已研发完成，随着EUV的普及化，它或许可以在三五年后实现自由出货。
　　然而，一旦我们在这个时间节点里实现了光刻设备的国产化，就意味着ASML现阶段的布局或许将失去意义。它显然没料到，国内市场在光刻研发上的进展会这么快。
　　不过，倪光南院士早有忠告，核心技术是买不来、换不来、求不来的，不管ASML未来是否能实现EUV的自由出货，我们都不能改变核心技术自研的发展方向，买来的东西用着不可能踏实，只有做到＂手中有粮＂，才能彻底摆脱卡脖子窘境。