国产28nm光刻机完成认证，台积电未来的发展，张忠谋该好好考虑了

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　　今天跟大家聊一聊：国产28nm光刻机已经完成认证，台积电未来的发展，张忠谋需要考虑了。
　　如今的中国已经不是那个＂任人宰割＂的年代了，在科技领域也不断迎来了技术突破，特别是在半导体领域，越来越多的企业投身其中，核心技术不断的攻克，在很多技术上我们也实现了反客为主，而华为的5G技术就是最好的例子，目前全球电信运营商，在建立5G网络的过程中，都绕不开华为的技术专利。
　　在单项技术上的领先，也导致了一系列的问题出现，就拿芯片领域来说，目前国内的很多企业都能够设计出顶尖的芯片，华为甚至已经在设计3nm芯片了，但这又有什么用呢，在相关限制之下，麒麟芯片直接面临停产，过度依赖于美国的技术，成为了中国半导体行业最大的问题。
　　相关限制并没有压垮中国企业
　　对于整个芯片领域来讲，目前中国芯片厂商，面临的最大一个问题就是无法获取到尖端的EUV光刻机，这也直接导致了中芯国际始终无法突破7nm芯片制造的瓶颈，但这种蛮横不讲理的限制，也直接触发了国内企业的斗志，非但没有压垮中国的半导体行业，反而还带来了意想不到的效果。
　　在麒麟芯片无法生产之后，华为第一时间官宣，之后将会全面扎根半导体领域，进行全产业链技术的研发，目前华为已经在建设自己的圆晶代工厂，在国家的大力支持之下，越来越多的科技企业，开始跨界进入到芯片领域的技术研发，国内也就此掀起了一波＂造芯浪潮＂！
　　根据相关数据统计，仅仅在2020年，新加入的半导体企业就多达两万多家，就算排除掉那些滥竽充数的企业，这也还是一股不容小觑的力量，国家也在呼吁让更多有实力的科技公司参与进来，共同攻克技术难题，更好的展开企业之间的合作。国产28nm光刻机已经完成认证
　　在近期中国半导体领域传来了一个好消息，由上海微电子研发的28nm国产光刻机，已经在技术上完成了检测和认证，预计在年底就能够安排量产。虽然这只是28nm的制程工艺，相比于ASML最新的EUV光刻机，差了好几代的技术，但对于中国半导体领域而言，是具备有特殊的意义。
　　之前行业内的专业人士就提出，目前中国所使用的芯片，有超过90%以上仅需要14nm及以上的工艺，而这台28nm的DUV光刻机足以满足需求，如果顺利引进到中芯国际的生产线的话，将在最大程度上帮助中芯国际布局完全自主化的生产线，而中芯国际也可以利用这台光刻机经过多重曝光，实现对于7nm芯片的制造。
　　而目前中科院也已经开始了对于光刻机技术的研发，目前也已经取得了众多的技术突破，特别是在最核心的光源技术上，目前也已经制备EUV光刻机的水平，而在芯片的整体产能上，中国已经实现了1天10亿颗的水平，一切都在朝着好的方向发展。
　　相关限制并没有阻碍中国半导体的发展，反而加速了国产芯片的自主化进程，美国是时候结束这种自私的限制行为了，非但没有达到想要的效果，反而拖垮了全球半导体行业的发展，致使全球进入到了全面的缺芯状态。台积电的优势逐步被取代！
　　张忠谋在谈到台积电对手的时候，直接口无遮拦地回应道：＂除了三星之外，台积电在全球范围内没有其它对手了，中芯国际的技术至少差了台积电三年以上，想要赶超基本上不可能。＂
　　然而仅仅过了一年的时间，张忠谋就被自己所说的话狠狠＂打脸＂了，在28nm的芯片代工份额上，已经完全落后于中芯国际了，虽然一直在耗费大量的资金进行扩产产能，但已经无济于事了，可以说完全失去了国内的客户。
　　在台积电赴美建厂，外加上加入美国半导体协会之后，国内一致出现了抵制台积电的浪潮，因此一旦国产生产线建设完成，国内的企业会做出什么样的选择已经很明显了，台积电最为忽视的对手，如今已经借助着时代的趋势强势崛起了。
　　那台积电目前唯一掌握的优势，就是对于ASML公司光刻机的优先获取权，但随着国产光刻机不断实现技术突破，台积电这样的优势也将逐步被淡化，后续该如何发展，张忠谋需要好好考虑一下，对此你们是怎么看的呢？