3年140台!EUV设备不再稀缺?ASML终于下定了决心
EUV光刻机是芯片制造的核心设备,该设备在整个芯片制造产线上的技术占比高达约40%,其重要性不言而喻。然而,由于EUV设备高精尖的技术门槛,以至于全球能生产的只有荷兰ASML。
在老美对华为等中企实施芯片禁令之后,EUV设备便成了我们突破封锁的最大拦路虎。ASML虽然有意向国内市场出口,但却因产线上使用了美国的技术以及产能不足这两方面原因,导致迟迟未与国内芯片企业达成交易。
为了实现高精尖芯片国产化,中科院、清北高校等科研机构纷纷入局高精尖的研发。短短两年时间内,中国科学家们便突破了"光源"、"双工件台系统"、"光学镜头"这三大EUV核心技术。与此同时,上海微电子自研的国产28nm光刻机也传出了年底正式商用的好消息。
我国是全球最大的半导体消费市场,对于在半导体领域中具有唯一性的ASML而言,我们在光刻技术方面的突破,是它最不愿意看到的。因为一旦我们实现了光刻设备自主,那么ASML的市场地位将会受到巨大的冲击。
为此,ASML曾警告老美:芯片断供适得其反,只会加速中国自给自足的步伐,五年之内,他们将掌握包括EUV设备在内的所有高精尖芯片技术,届时ASML将有破产的风险。
可惜,老美对于华为等国产高科技企业太过忌惮,完全不顾所有人的反对,宁可让美企以及使用美技术的企业承受无法自由出货的损失,也不愿意主动让步、解除限制。
对于ASML来说,想要在未来不被排除在中国市场之外,目前唯一的办法就是扩大EUV的产能,将这项稀缺设备变的普及化,同时研发出更先进的新型设备,以实现在不违法老美限制规则的情况下,换取EUV的自由出货。
果然,在我国光刻研发不断突破的压力下,被老美限制自由出货的ASML终于下定了决心。
首先,在上个月,ASML公开宣布,新型的EUV光刻机NEX:5000的各项零部件已经制造完成,将在今年底运往荷兰总部进行安装,预计在2023年实现投产。
其次,ASML大举"招兵买马",不仅在韩国投资2400亿韩元建立EUV集群,而且还在荷兰、美国两地总计投资数十亿美元来扩大EUV产线。另外,ASML还不断扩大科研团队,工程师人数将增加20%,达到3400人的规模。
外媒报道,ASML计划在今年年底再出货25台EUV光刻机;在2022年,将产能提高至55台;2023年,则把产能再次提升到60台。总计三年140台!
要知道,EUV设备从2015年商用至今,ASML总计也才出货了不足100台,且仅台积电就包揽了约70%的产能。
如今ASML方面的突然提速,必然会在很大程度上改变目前的全球芯片格局。
随着EUV的普及以及新型EUV的出现,全球芯片制造产业之间的差距将进一步缩小;更重要的是,ASML或许就可以实现自由出货,因为在新型NEX:5000出现之后,EUV将不再是最先进的技术,而且也不再是稀缺的设备。
因此,ASML如果能达成3年制造140台EUV光刻机的计划,或许未来还能在庞大的中国半导体市场中拥有一席之地。