ASML首次对外承认，结局已定

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　　随着电子产业的迅猛发展，全球市场对于芯片的需求量也迎来强劲的增长，在这样的情况下，为了缓解芯片供应紧张的局面，很多国家地区都加大了在半导体产业的布局。我国由于在半导体领域起步较晚，国内芯片很大程度上都依赖进口。
　　但随着华为的事情发生，我国芯片被＂断供＂，我国便加快了芯片国产化进程，但此时，高端光刻机的缺失又成为制约我国芯片制程的一个关键点。
　　大家知道，随着美国几次三番修改＂芯片规则＂，ASML便无法对我们自由出货EUV光刻机。EUV光刻机作为7nm以下高端制程芯片必不可少的制造设备，没有它想要量产高精密度芯片基本上是不可能实现的。
　　作为全球最大的半导体设备制造商，ASML在全球中高端光刻设备市场上份额占比高达90%以上，由于其供应链的特殊性，在EUV光刻市场中更是形成了垄断地位。
　　ASML的EUV光刻机制造工艺复杂，很多零部件都是和供应商一起研发出来的，连ASML自己也只掌握了18%的技术专利，也是因此，在美国修改了＂芯片规则＂之后，使用了部分美国技术的ASML在EUV光刻机的出货自由上无法自己作出决定。
　　我国半导体企业中芯国际为了缓解国内芯片紧张的现状就曾耗资十亿向ASML全款订购了一台EUV光刻机，但直到现在这台光刻机仍无法在我国境内落地。
　　此外，EUV光刻机也不是说生产便能生产的，由于产能有限，一般都是有限供应给台积电、英特尔、三星这样的国际大厂，在这些半导体厂商扩大产线规模后，EUV光刻机更是紧俏，不是说买就能买的。
　　此前三星电子公司董事李在镕两次到访ASML，就是寻求更多EUV光刻机的出货量。ASML首次对外承认，EUV光刻机可能供过于求
　　为了缓解全球芯片的紧缺，ASML也加快了光刻机的出货速度，根据ASML 在2022第一季度财务会议上发布的消息，预计在今年实现出货55台EUV光刻机，在2025年实现90台EUV光刻机的出货。
　　但同时，ASML也承认，90台EUV光刻机可能会超过2025年的实际需求。根据ASML在第一季度披露的财报数据显示，在今年第一季度EUV光刻机的出货仅有三台。此外，ASML最新研发的下一代high NA-EUV光刻机目前也只收到了六台的订单。
　　但ASML表示，这是为了实现2030年1万亿美元半导体行业需求所做出的巨大努力。
　　但事实上，谁都明白，明知道会供过于求一般情况下都是缩减产量，而且一台EUV光刻机造价不菲，亏本生意谁都不会做。因此就有业界猜测，这是不是在为了给大陆市场供货做准备。之所以作出如此猜测原因有三
　　首先，如今我国已经成为全球最大的半导体消费市场，而且随着国家的重视，更多企业进入半导体领域，光是在去年一年我国新增的半导体企业就增加了4.74万家，同比增长105.06%，在全球20家增速最快的芯片企业中，我国企业就占了19家，与上一年的8家相比增长了137%。
　　随着我国半导体相关企业的增加，我国芯片产能也会随之增加，对光刻机的需求也就越来越大。
　　根据ASML第一季度的营收情况来看，总营收额为35.34亿欧元，毛利率为49%，与上个季度54.2%的毛利率相比下滑了19%。
　　ASML在第一季度向我国大陆市场出货的DUV光刻机就有23台，而且ASML在我国的市场份额已经超过美韩等国家，市场份额占比达到34%。我国已经超越美国成为ASML的第三大市场。
　　从这组数据来看，毫无疑问，面对我国如此广阔的市场前景，ASML是不愿意放弃的。
　　其次，随着中科院等科研机构和上海微电子、长春光机研究所等光刻机厂商的共同努力，近两年来，国产光刻机实现了多方面的技术突破。
　　虽然目前国内光刻机的技术和生产能力不能满足国内芯片市场的需求，但近年来国产化替代率的进步速度和提高也是有目共睹的。例如，据报道，由上海微电子有限公司自研的国产DUV光刻机将于明年正式推出。
　　在芯片工艺制程上，中芯国际也已经掌握了7nm制程，目前已经进入风险试产，在成熟工艺上，14nm、28nm制程更是已经能满足一部分国内生产需求。
　　ASML首席执行官 Peter Wennink就多次公开表示：限制对中国EUV光刻机的出货毫无益处，他们将在3到5年内掌握这项技术，到时候ASML的光刻机很可能就被淘汰了。
　　最后，ASML的 EUV光刻机实际上有一个很大的缺点，那就是耗电量极大。台积电此前就出现过电力不足的问题，但当时很多人都觉得这是台积电的问题，事实上，这真不赖台积电。
　　随着近期中国台湾省的电费正在急剧上涨，台积电每年要多交40亿的电费，现在台积电每年要交的电费已经超过300亿。
　　只不过在之前，由于EUV光刻机的不可替代性，这个问题很少被人注意到，可以说即使注意到了也没办法，但以后就说不准了。写在最后
　　现在很多地区都因为老美的芯片禁令正在加大光刻设备和光刻技术的自研，如铠侠和佳能就联合研发出纳米压印微影技术(NIL)，目前已经能实现15nm制程的量产，不使用EUV光刻机最高能制程能达到5nm。
　　此外，堆叠芯片等新的技术也正在出现，EUV光刻机最后被别的技术取代的结局是可以预见的，ASML也开始有危机感了。