ASML光刻机 光刻机作为芯片生产中必不可少的一环,其地位自然十分重要。在历史上我们国家的光刻机也曾经有过一段高速发展的阶段,早在1965年中国科学院就研制出65型接触式光刻机;1977年研制出GK-3型半自动光刻机;1981年研制出JK-1型半自动接近式光刻机;1985年研制出分步投影式光刻机,达到美国4800DSW光刻机的水平,距离世界上最顶级的分步光刻机也仅有7年的差距。 我国第一台光刻机65型接触式光刻机 但是光刻机的研发最终并没有延续下来,这其中有很多原因,一方面是国内很多事业尚处于初期阶段,有更重要的科研方向需要进行研发投入;另一方面则是当时的国际形势发生了变化,随着改革开放的进行加上当时同西方的关系大幅缓和,包括光刻机在内的众多核心设备都可以买到。 上海微电子 相对于国内光刻机研发的高额投入,从西方国家购买的光刻机不但精度更高,价格也更加低廉,性价比远高于自主研发。因此在多方面因素的影响之下,我国光刻技术的研发和产业化基本上已经放弃了自主研发。我们国家的光刻机技术也就此停留在193纳米技术节点之上。 02专项 但是随着国际形势的进一步变化,自1992年开始,各种高端技术和设备的进口开始缩减,对于光刻机的研发也重新被提上日程。2002年上海微电子装备有限公司成立并开始投入到光刻机的研发中,2008年《极大规模集成电路制造装备及成套工艺》(专项02专项)将EUV技术列为下一代光刻技术重点攻关的方向,并计划在2030年实现EUV光刻机的国产化。 DUV光刻机也将"断供" 但是在2018年之前所有的光刻机都可以买到,因此国内光刻机的研发虽然在稳步进行,但是却缺乏紧迫性。但是随着人工智能、云计算等技术的兴起,芯片在科技产业中的地位不断提升,同时光刻机的重要性也在不断提升。先是中芯国际正常下单的EUV光刻机的交付时间不断推迟,直到今天依然没有交付,EUV光刻机也形成了事实上的"断供";其后一直在正常交付的DUV光刻机成为了新的目标,多家外媒报道美国政府正在向ASML施压要求不准继续向中国销售DUV光刻机。 中国已经是ASML第一大市场 如果DUV光刻机也无法进口,那么对于国内芯片产业将产生不小的冲击。作为全球领先的半导体厂商,无论是先进的EUV光刻机还是DUV光机,ASML都占据了全球绝大多数的市场份额。在国内芯片产业高速发展的同时,也成为了ASML最大的市场。 根据ASML财报显示,2022年第一季度共向国内出口22台光刻机,也让中国成为了ASML最大的市场,占据了其收入来源的34%,对比2021年的16几乎上涨了一倍。光刻机进口数量暴增的背后是国内光刻机产业链快速发展的身影。 国内众多芯片厂商采购ASML光刻机 在芯片产业链不断完善的同时,国内在新能源汽车、云计算、物联网、5G等领域取得了快速的发展并进入了全球科技产业前列,也诞生了如华为、阿里云等能够在全球进行竞争的强大科技企业。 也正是因为国内在科技领域的话语权不断增加引起了美国的忌惮并最终选择对芯片产业下手。一旦DUV光刻机进口受限,由于目前国内上海微电子的最先进制程依然仅有45nm,那么对于国内部分需要先进制程的芯片行业来说将受到很大影响。 ASML 一旦DUV无法进口成为现实,那么用国产取代ASML也将成为唯一选择。在很长一段时间之内,光刻机领域存在"造不如买"的思想。从实际角度来说,"造不如买"是有其现实原因的,由于光刻机领域是一个"赢者通吃"的科技领域。一旦取得领先优势之后,就可以通过成本控制不断降低光刻机的售价。这也使得同等规格的光刻机ASML可以做到国产光刻机的一半左右。 在其他行业中,我们所采用的从低端开始发展,累积利润和技术之后逐渐向高端进军的模式在光刻机行业并不适用。因为在光刻机和半导体行业里,技术最先进的公司将垄断大部分利润,而技术落后的一方在很长一段时间之内很难获利。例如全球排名第一的台积电净利润为3500亿美元,而排名第五的中芯国际净利润仅有2亿美元,两者相差了1000倍。 国产光刻机要走的路还很长 如今想要对ASML进行追赶,仅仅依靠企业单打独斗很难成功。一方面需要从更高层面对半导体产业进行资金方面的扶持,另一方面则需要统合高校以及研究机构,对半导体行业进行集中攻关。 不可否认过去ASML光刻机确实对国内芯片行业的发展起到了积极的推动作用,但是随着EUV光机、DUV光机先后进入"断供"状态,除了取代ASML已经没有第二条道路可以选择。大家看好国内企业对ASML的追赶吗?欢迎留言讨论。