曾被美国诬陷的华人教授陈刚，发现有史以来最好的半导体材料

　　来自麻省理工学院（MIT）、休斯敦大学（University of Houston）和其他机构的一组研究人员近日发现了立方砷化硼在导热和导电方面的超高性能，而立方砷化硼也被麻省理工学院称为＂ 有史以来发现的最好的半导体材料 ＂。值得一提的是，曾被诬陷从事间谍活动的华裔教授陈刚（Gang Chen）正是该研究团队的一员。
　　麻省理工学院机械工程系陈刚教授（图片来源：MIT网站）
　　《财富》杂志报道，硅是目前制作计算机芯片主要使用的材料，而近日一组科学家发现了比硅性能更好的半导体材料——立方砷化硼。这种新材料可能有助于设计师克服现有的型号限制，制造出更好、更快、更小的芯片。
　　根据研究显示，立方砷化硼的导热性能是硅的10倍。参与研究的陈刚说：＂发热是电子产品的一个主要瓶颈，而立方砷化硼可能成为游戏规则的改变者。＂
　　虽然像立方砷化硼这样的材料如果能够商业化，那么研究人员通过新的芯片材料或量子计算等新技术来提高新计算机速度的梦想有望成真，但是目前还有很长的路要走。麻省理工学院表示，目前这种材料仅能小批量生产，而研究人员也需要特殊设备来研究其性能。
　　陈刚说：＂硅是目前整个行业的主力军，但是未来立方砷化硼可能成为下一代电子产品材料的有力竞争者。＂
　　此次新研究的发布也是陈刚重回大众视线的一次机会。
　　陈刚曾于2021年1月遭到当局逮捕，原因是他被指控隐瞒与中国机构的关系。
　　根据指控文件，陈刚是美籍华人（毕业于华中科技大学），担任MIT帕帕拉多微纳米工程实验室主任和固态太阳能热能转换中心主任。大约从2013年开始，他在MIT的研究已经获得了美国联邦机构授予的1900多万美元的资助。
　　美国司法部文件显示，自2012年以来，陈刚在中国担任了多项职务，目的是通过提供建议和专业知识，促进中国的科技发展，并获得经济补偿。
　　学界，特别是麻省理工学院，强烈谴责了逮捕行为。麻省理工学院的教职员工在一封公开信中写道：＂为陈教授辩护就是为我们都珍视的科学事业辩护，因为我们都是陈刚。＂
　　美国司法部在今年1月撤销了对陈刚的指控。陈刚控诉司法部＂为学术界带来无端恐慌＂。同时一些科学家也认为，对陈刚的调查阻止了许多中国学者来美，剥夺了美国从他们的研究中受益的机会。另有研究表明，美国的芯片研究需要来自海外，包括中国的人才。