美国政府把日本和荷兰拉上对华芯片出口限制的战车,日本和荷兰上周五同意与美国一道,限制向中国出口先进制程芯片制造设备。这三个国家在先进制程半导体生产设备的制造方面占主导地位,这样一来,该计划可能使中国更难发展自己的芯片产业。 日本和荷兰在一种被称为光刻的制造工艺上尤其占优势:即用光在晶圆上刻印微小电路的工艺。荷兰制造商阿斯麦(ASML Holding NV)实质上垄断了用于制造最尖端芯片的极紫外光刻(EUV)工艺所需设备的生产。该公司已停止向中国出口EUV光刻机。 但由于美国政府去年10月扩大了对华芯片相关出口限制,荷兰和日本一些比较老的技术可能也要受到限制,从而使美国的措施奏效,并避免出现由美国公司独自承受影响的局面。日本尼康(Nikon)与阿斯麦竞争,为一种名为深紫外光刻(DUV)的技术工艺提供零部件,DUV比EUV低一个档次。上周五的协议可能至少会限制日本和荷兰公司出口某些型号的DUV光刻机。