光刻机成了中国卡脖子的关键技术，光刻机为什么那么重要？

　　引言：杨振宁曾建议过，中国应该要研制出属于自己的芯片，要能够投入时间和精力，在光刻机的研发上。但是在当时却没有几个人相信，也并没有把他的建议当一回事，如今没想到光刻机居然就成为了中国的痛。
　　光刻机是什么？
　　光刻机（Mask Aligner) 又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。
　　光刻机是生产大规模集成电路的核心设备，制造和维护需要高度的光学和电子工业基础，世界上只有少数厂家掌握。因此光刻机价格昂贵，通常在 3 千万至 5 亿美元。
　　目前市场上提供量产商用的光刻机厂商有三家：ASML、 尼康和佳能。
　　ASML，这是一家总部设在荷兰的全球最大的半导体设备制造商之一，向全球复杂集成电路生产企业提供领先的综合性关键设备，全球市场占有率75%。
　　其中 TWINSCAN系列是目前世界上精度最高，生产效率最高，应用最为广泛的高端光刻机型。目前全球绝大多数半导体生产厂商，都向ASML采购TWINSCAN机型，比如英特尔、三星、台积电、中芯国际等。
　　目前ASML已经与浙江大学、大连理工大学、哈尔滨工业大学、上海交通大学等著名高等学府签定奖学金及科研合作协议，为培养本地人才，做出自己的一份贡献。
　　制造光刻机有多难？
　　美国的工程师说过：仅仅是光刻机其中的一个小零件我都调了整整十年！
　　荷兰ASML表示：我就算公开图纸，别人也造不出光刻机。
　　荷兰ASML制造的光刻机，光源技术是美国的、光学设备是日本的、轴承是瑞典的、阀件是法国的、机械工艺和蔡司镜头是德国的、制造技术则是来自台积电和三星。
　　我国目前在光刻机研发已经花了相当长的时间，也必须花上更长的时间，目前我国上海微电子研发的光刻机精度达到了28纳米，除了手机芯片对芯片工艺要求比较高以外，其它终端只需要28nm就可以满足。但高端光刻机的光刻机的精度却是5纳米，所以还有很大的差距。手机的高端7nm芯片，基本上都是台积电和三星在做代工，中芯国际也很想分一杯羹。
　　任重而道远
　　美国一直奉行霸权主义，在国际社会上横行霸道，但是，随着中国的日益强盛，中国在国际社会上的地位也显著提升。在各种行业中，科技是美国的强项。美国政府为了打压中国的通讯产业，开始对中国进行＂芯片封锁＂。最近根据美国媒体的报道，拜登政府已经对荷兰的企业进行了接触，试图阻止荷兰卖给中国光刻机。
　　作为光刻机行业的领导者，阿斯麦公司直接垄断了全球7nm及以下工艺的EUV光刻机技术。现在，英特尔，三星电子等知名公司都引进了EUV技术，在智能手机、计算机和其他设备中制造芯片。虽然阿斯麦公司的DUV光刻机不少的中国企业已经拥有了，但是中国目前还没有引进7nmDUV光刻机技术，这使得很多中企都想要引进EUV光刻机技术，降低中国对外来供应商的依赖。然而由于荷兰在拜登的压力下暂扣了对华出口许可证，所以阿斯麦公司并未将其出售给中国。
　　只有拥有真正高端的光刻机，才能将命运掌握在自己的手里，在芯片制作方面才不能被人卡住脖子。一定要坚持光刻机的研发，芯片已经成为了未来科技发展的必需品，最后，相信我们必须也一定会拥有自己的高端光刻机。